中國粉體網訊 20世紀50年代起半導體材料開始發(fā)展,至今為止開啟了第三代半導體的時代,。碳化硅(SiC)憑借眾多優(yōu)良性能,,使其成為基于寬帶隙半導體的高溫,、高電壓,、大功率、高頻電子器件和傳感器的襯底上的理想材料,。與此同時,,近年來[更多]
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