參考價格
5-10萬元型號
CMD2000品牌
IKN產地
德國樣本
暫無粉碎程度：
超細粉碎單位能耗：
0-10產量：
700-8000裝機功率（kw）：
2.2成品細度：
0-0.2入料粒度（mm）：
0-100工作原理：
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IKN研磨分散機為立式分體結構,，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下,。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低,，保證機器連續(xù)24小時不停機運行,。
1)勻漿：取新鮮豬腦,去除結締組織及碎骨等非腦組織,用注射用水洗干凈,瀝干,先在攪肉機上初步攪碎，再用1:1純化水通過,研磨分散機或者膠體磨處理,，得到豬腦的的勻漿,；
2)(2)將勻漿液分別用胃蛋白酶、胰酶水解,，收集水解上清液,，進行過濾，收集濾出液,； (3)將濾出液用羥基磷灰石層析柱進行吸附分離純化,，調配肽圖，收集目標物,； (4)采用對分子截留為8KD的濾膜進行超濾,，收集濾出液，進行定氮,、氨基酸分析,； (5)按國家藥品監(jiān)督管理局2000年12月28日頒布的編號為WS1-XG-25-2000藥品標準計算氨基酸用量，添加相應氨基酸配制成濃配液,，0.22μm濾膜進行精過濾,，即得注射用腦蛋白水解物的原液
IKN管線式高剪切研磨分散機是由IKN研發(fā)工程師于2013年新研發(fā)的一款用于物料精細研磨，分散,，乳化,，均質的高精度設備，高剪切研磨分散機結合了IKN高剪切膠體磨與IKN高剪切分散均質乳化機的高速研磨,，分散,，乳化，均質等功能,，設備轉速可達14000rpm,，是目前國產設備轉速的4-5倍,。
CMD2000研磨機為立式分體結構,，精密的零部件配合運轉平穩(wěn),，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,，并通冷媒對密封部分進行冷卻,，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行,。
CMD2000研磨機有一定輸送能力,，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,，進行物料的推動輸送,；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼,；特殊要求如：硬度較大物料,，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷,；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質
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加工工藝：。
１）將食品級新鮮豬腦粉碎后加入１～４倍體積極性有機溶劑,，勻漿２～４小時后過濾,，分別收集濾餅和濾液； （２）向步驟（１）所得濾液中加入弱極性有機溶劑和純化水的混合溶液,；制備神經節(jié)苷脂總脂,；用純化水溶解神經節(jié)苷脂總脂，用乙酸或磷酸調節(jié)ｐＨ至２～５,，在７０～１００°Ｃ加熱保溫水解,，水解時間為１～６小時，水解結束后加入１～３倍體積的預冷bing酮,，獲得水解物沉淀,；將水解物沉淀過濾干燥后用氯fang\\甲醇＝ ５０：５０的溶液溶解，上樣硅膠柱,，用洗脫液洗脫硅膠柱,，控制流速３－５Ｌ\\ｈ，收集純度大于９８．５％的組份,，獲得高純度單唾液酸四己糖神經節(jié)苷脂,； （３）向步驟（１）所得濾餅中加入１～３倍體積的bing酮,，勻漿１～２小時脫去磷脂，過濾,，減壓濃縮,，２０～３０°Ｃ干燥，獲得脫脂豬腦粉,；向脫脂豬腦粉中加入鹽緩沖液調節(jié)ｐＨ為５～７,，按照１－３ｇ\\Ｌ的比例分別加入兩種或三種水解酶，在２５～４２°Ｃ條件下水解２～１０小時,，水解結束后７０～１００°Ｃ滅活５～１５ｍｉｎ,，室溫放置降溫；之后將水解液經一定分子量的超濾膜過濾,，所得濾液再經截留分子量為１００～５００的納濾濃縮和真空冷凍干燥獲得注射級豬腦水解蛋白,。
研磨分散機的優(yōu)勢：
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設計理念，將先進的技術與創(chuàng)新的思維有效融合,，并體現(xiàn)在具體的設備結構設計中,，為設備穩(wěn)定運行提供了保證.
新結構 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小,，超高線速度的吸料式葉輪提供超強切割力,。
更可靠 采用整體式機械密封，zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題,，安裝與更換方便快捷.
新技術 采用國際先進的受控切割技術,，將物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產中的粗,、細及超細濕法粉碎的要求.
從設備角度來分析,，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結構（分為初齒,、中齒,、細齒、超細齒,、越細齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間,、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好,，到設備的期限就不能再好了,。）
線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,，剪切速率取決于以下因素：
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距,。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
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