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納米材料增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機,，晶須增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機,，纖維增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機，碳納米管增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機,，相變增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機,，顆粒彌散增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機

上海依肯機械研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,，并通冷媒對密封部分進行冷卻,，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行,。采用優(yōu)化設(shè)計理念,，將先進的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,，為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.

氧化鋁陶瓷是氧化物中*穩(wěn)定的物質(zhì) , 具有機械強度高 ,、高的電絕緣性與低的介電損耗等特點, 在航天 、航空,、紡織,、建筑等方面 ,具有廣闊的應(yīng)用前景。但是 ,由于它高脆性和均勻性差等致命弱點 ,影響了陶瓷零部件的使用安全性 ,因此,提高氧化鋁陶瓷的韌性是亟待解決的重要問題,。

那么氧化陶瓷為什么如此脆呢,？

金屬材料很容易產(chǎn)生塑性變形，原因是金屬鍵沒有方向性。而在陶瓷材料中,，原子間的結(jié)合鍵為共價鍵和離子鍵,，共價鍵有明顯的方向性和飽和性，而離子鍵的同號離子接近時斥力很大,，所以主要由離子晶體和共價晶體組成的陶瓷,，滑移系很少，一般在產(chǎn)生滑移以前就發(fā)生斷裂,。

為了減少氧化鋁基陶瓷材料的脆性 ,除了采用先進的制備工藝外 ,還需要在氧化鋁陶瓷的增韌技術(shù)方面開展廣泛及深入的研究,。下面 從納米材料方面介紹增韌技術(shù)要點：

納米材料與納米技術(shù)方面的研究有可能使陶瓷增韌技術(shù)獲得革命性突破。一方面 ,納米陶瓷由于晶粒的細化 , 晶界數(shù)量會大大增加 ,同時納米陶瓷的氣孔和缺陷尺寸減小到一定尺寸就不會影響到材料的宏觀強度 ,結(jié)果可使材料的強度,、韌性大大增加 ,。另一方面 ,在陶瓷基體中引入納米分散相并進行復(fù)合 , 不僅可大幅度提高其強度和韌性 ,明顯改善其耐高溫性能。

因此 ,氧化鋁陶瓷納米化及納米復(fù)合目前已成為改善其斷裂韌性的*重要途徑之一,。

納米復(fù)相陶瓷的強韌化機理 , 主要通過以下幾個效應(yīng)體現(xiàn):

1,、散相的引入有效地抑制了基質(zhì)晶粒的生長和減輕了晶粒的異常長大 ;

2、彌散相或彌散相周圍存在局部應(yīng)力 ,使晶粒細化而減弱主晶界的作用 ;

3,、納米粒子高溫牽制位錯運動 , 使高溫力學(xué)性能如硬度 ,、強度及抗蠕變性得到改善。

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上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料,。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),，運行噪音在73DB以下,。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻,，把泄露概率降到低,，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,，將單一的膠體磨磨頭模塊,，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤,?？筛鶕?jù)物料要求進行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散,，乳化,，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,，是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍,。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,，特別要引起注意的是：在粗精度,、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣,。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能,。根據(jù)以往的慣例,，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要,。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用,。

CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料,，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,，機座采用304不銹鋼,；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì),。

研磨分散機的特點：

1,、 線速度很高，剪切間隙非常小,，當(dāng)物料經(jīng)過的時候,，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2,、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3,、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4,、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。

5,、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級：化工級,、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級,、無菌級
電機形式：普通馬達,、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達,、變頻防爆馬達,、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ,、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護,、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L ,、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐,、排污閥、變頻器,、電控箱,、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭,、螺口,、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率,，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒,、中齒,、細齒、超細齒,、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間,、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好,，到設(shè)備的期限就不能再好了,。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距,。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

應(yīng)用領(lǐng)域：

化學(xué)工業(yè)：油漆,、顏料,、染料、涂料,、潤滑油,、潤滑脂、柴油,、石油催化劑,、乳化瀝青、膠粘劑,、洗滌劑,、塑料,、玻璃鋼,、皮革,、乳化等,。
日用化工：牙膏、洗滌劑,、洗發(fā)精,、鞋油,、高級化妝品,、沐浴精,、肥皂、香脂等,。
建筑工業(yè)：各種涂料,。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料,、冷瓷涂料、多彩涂料,、陶瓷釉料等,。
其它工業(yè)：塑料工業(yè),、紡織工業(yè)、造紙工業(yè),、煤炭浮選劑,、納米材料等

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