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主要用于去除殘留在晶圓表面的微塵顆粒、有機物,、無機物,、金屬離子、氧化物等雜質(zhì),，滿足集成電路制造對清潔度的極高要求,，對晶圓生產(chǎn)的良率起到了重要的作用。全系列原材料電子級純化產(chǎn)線,，諸多核心材料自主生產(chǎn),。
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