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IKN單壁碳管漿料高速分散機(jī),，碳納米管復(fù)合材料研磨分散機(jī),，單壁碳納米管高速研磨分散機(jī)，碳納米管復(fù)合材料高剪切研磨分散機(jī),，德國(guó)進(jìn)口研磨分散機(jī),，IKN研磨分散機(jī),，管線式研磨分散機(jī)，中試型研磨分散機(jī)

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)特點(diǎn),，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C(jī)多用,，也可以單使用，且粉碎粒度范圍廣,，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整,。

碳納米管復(fù)合材料

（1）導(dǎo)電塑料(聚脂)。將碳納米管均勻地?cái)U(kuò)散到塑料中,可獲得強(qiáng)度更高并具有導(dǎo)電性能的塑料,?？捎糜陟o電噴涂和靜電消除材料,目前汽車的塑料零件由于采用了這種材料,可用普通塑料取代原用的工程塑料,簡(jiǎn)化制造工藝,降低了成本,并獲得形狀更復(fù)雜、強(qiáng)度更高,、表面更美觀的塑料零部件,。是靜電噴涂塑料(聚脂)的發(fā)展方向。同時(shí)由于碳納米管復(fù)合材料具有良好的導(dǎo)電性能,不會(huì)象絕緣塑料產(chǎn)生靜電堆積,因此是用于靜電消除,、晶片加工,、磁盤(pán)制造及潔凈空間等領(lǐng)域的理想材料。碳納米管還有靜電屏蔽功能,由于電子設(shè)備外殼可消除外部靜電對(duì)設(shè)備的干擾,電子設(shè)備正常工作,。

（2）電磁干擾屏蔽材料及隱形材料,。由于特殊的結(jié)構(gòu)和介電性質(zhì),碳納米管表現(xiàn)出較強(qiáng)的寬帶微波吸收性能,它同時(shí)還具有重量輕、導(dǎo)電性可調(diào)變,、高溫抗氧化性能強(qiáng)和穩(wěn)定性好等特點(diǎn),是一種有前途的理想的微波吸收劑,可用于隱形材料,、電磁屏蔽材料或暗室吸波材料。碳納米管將用于制造具有電磁功能及吸收電磁波功能的隱形材料,。

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)的物料,。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),，運(yùn)行噪音在73DB以下,。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,，把泄露概率降到低,，機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,，將單一的膠體磨磨頭模塊,，改良成兩級(jí)模塊，加入了分散盤(pán),?？筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散,，乳化,，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,，是目前國(guó)內(nèi)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍,。

行業(yè)內(nèi)典型合作客戶包括成都某單位，沈陽(yáng)某大學(xué),，為業(yè)內(nèi)單壁碳管/碳納米管分散領(lǐng)域龍頭地位,。

IKN單壁碳管漿料高速分散機(jī)

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí),、衛(wèi)生II級(jí),、無(wú)菌級(jí)

電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá),、防爆馬達(dá),、變頻防爆馬達(dá)、

電源選擇： 380V/50HZ,、220V/60HZ,、440V/50HZ

電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型

研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 ,、SUS316L ,、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷

研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥,、變頻器,、電控箱,、移動(dòng)小車

研磨分散機(jī)表面處理：拋光,、耐磨處理

進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口,、夾箍

研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

從設(shè)備角度來(lái)分析,，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒,、中齒,、細(xì)齒、超細(xì)齒,、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間,、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī),，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了,。）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率,。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)

g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距,。

IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)重要因素,，分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是重要的

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表

型號(hào) 流量L/H 轉(zhuǎn)速rpm 線速度m/s 功率kw 入/出口連接DN

CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15

CMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32

CMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65

CMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65

CMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125

CMD2000/50 15000 1100 23 110 DN200/DN150

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

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