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【設(shè)備特點(diǎn)】

□ 整機(jī)高度防腐，可實(shí)現(xiàn)高精度化學(xué)機(jī)械拋光工藝,；

□ 選配藍(lán)牙系統(tǒng),，可多機(jī)聯(lián)控；

□ 多通道進(jìn)料系統(tǒng),；

□ 在線實(shí)時(shí)磨拋盤溫控及冷卻功能,；

□ 磨拋盤自動(dòng)沖洗功能；

【設(shè)備參數(shù)】

【技術(shù)應(yīng)用】

適用材料  廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體材料,、金屬薄膜,、光電材料等平面、端面及角度拋光,，由于整機(jī)高度防腐,，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿強(qiáng)氧化劑，除主要加工材料氮化鎵,、金剛石,、氧化鎵、多晶碳化硅外,，還特別適用于CZT,、MCT、GaAs,、InP及類似材料的化學(xué)拋光,。

應(yīng)用領(lǐng)域   廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體材料襯底減薄拋光、器件制備,、先進(jìn)封裝及MEMS等相關(guān)領(lǐng)域,，例如TC-SAW、FBAR,、激光器,、硅光子器件,、TSV,、SIP、Fan-out,、MEMS高溫壓力傳感器,、MEMS陀螺儀等。

【設(shè)備說明】

○ 整機(jī)高度防腐,，可在耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿強(qiáng)氧化劑的工藝環(huán)境下實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定高效運(yùn)行,；

○ 研磨拋光盤轉(zhuǎn)速可自主設(shè)定，轉(zhuǎn)速范圍為0-120rpm,；

○ 工作時(shí)間可自主設(shè)定,，連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間可達(dá)10個(gè)小時(shí),；

○ 通過選配藍(lán)牙系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)一個(gè)終端多機(jī)聯(lián)控，減少人工,，且工藝程序所有控制參數(shù)均可在顯示屏獨(dú)立顯示,；

○ 研磨工藝轉(zhuǎn)到拋光工藝時(shí)，研磨盤與拋光盤的更換簡捷方便,，全系列磨頭及附件均適配,；

○ 填料系統(tǒng)自動(dòng)控制，滴料速度可調(diào),；

○ 夾具擺幅及速度可精確控制,，且擺幅范圍：0－100%；

○ 夾具壓力可調(diào),，可調(diào)范圍可達(dá)7kg,；

○ 樣品去除厚度可控，去除量精度1μm,；

○ 配有獨(dú)立真空單元,，樣片通過真空吸附固定到夾具上面；

○ 可定制固定組件,，實(shí)現(xiàn)端面及角度磨拋工藝,；

○ 可選配盤溫監(jiān)控功能，監(jiān)測精度1℃,；

○ 可獨(dú)立顯示并指示實(shí)際工作時(shí)長,，在完成既定工藝程序后自動(dòng)關(guān)機(jī)。

【系列型號(hào)】