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面議型號
真空退火爐—VF-200品牌
致真精密產(chǎn)地
安徽樣本
暫無非金屬電熱元件：
其他金屬電熱元件：
其他燒結氣氛：
氧氣溫控精度：
RT-1200℃，精度±1℃最高溫度：
-額定溫度：
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真空退火爐是改善薄膜質量的有效手段,，在特殊氣體氛圍下加熱還可以改善薄膜的組分。VF-200是致真設備公司推出的一款標準型退火爐,，可與公司其他工藝腔體互聯(lián)實現(xiàn)薄膜的原位退火,，也可以單獨使用。還可以選配磁鐵模塊實現(xiàn)對磁性薄膜的誘導,，系統(tǒng)搭配控制軟件,，運行穩(wěn)定可靠!
性能參數(shù)
晶圓尺寸 | 1inch-8inch |
極限真空 | 5×10-8mbar |
溫控 | RT-1200℃，精度±1℃ |
加熱方式 | SIC輻射加熱 |
氣體氛圍 | 可在O2等環(huán)境下加熱 |
互聯(lián) | 可與工藝腔體互聯(lián)實現(xiàn)自動傳輸 |
真空系統(tǒng) | 機械泵+分子泵 |
可選 | 磁鐵模塊,、進樣室,、氣氛退火等 |
暫無數(shù)據(jù)！
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