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Bhadra?立式
Bhadra?立式

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型號

Bhadra?立式

品牌

拉普拉斯

產(chǎn)地

廣東

樣本

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拉普拉斯新能源科技股份有限公司

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                           Bhadra?立式LPCVD BHC200


功能

  • 氮化硅/氧化硅/多晶硅（Poly-Si）/非晶硅（α-Si）薄膜沉積

  • 適用于功率半導(dǎo)體/襯底材料 

重要參數(shù)

  • **晶圓尺寸：8寸及以下晶圓

  • **載片量：125片/批

  • **加熱溫度：1050℃

  • 成膜種類：根據(jù)不同工藝要求工藝源可選配 

裝卸片方式

  • 立式垂直升降

  • 垂直真空密封系統(tǒng) 

            優(yōu)勢

  • 先進的壓力控制技術(shù)

  • 五區(qū)高精度溫度場控制

  • 先進的顆粒控制技術(shù)

  • 先進微環(huán)境氧含量控制

  • 穩(wěn)定的傳輸控制能力

Bhadra?立式LPCVD BHC200

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