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拉普拉斯低壓水平氧化退火設備 LOX430品牌
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設備的應用及特點：
應用
本設備適合156-210mm硅片生產,，能幫助客戶降低固定資產投入和運營成本。
產品特點
1. 水平放片,，管內空間利用率高,，不僅能耗低，且具有業(yè)內**的產能,；
2. 硅片方向與氣流方向一致,，硅片對氣流阻擋小，片內/片間均勻性更優(yōu),；
3. 自重擠壓,，減少硅片間間隙，繞擴/繞鍍可控,；
暫無數(shù)據(jù),！
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