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拉普拉斯低壓水平硼擴(kuò)散設(shè)備 LRB430品牌
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設(shè)備的應(yīng)用及特點(diǎn)：
應(yīng)用
本設(shè)備適合156-210mm硅片生產(chǎn)，無(wú)傳統(tǒng)技術(shù)的搭片問題及其帶來(lái)的方阻均勻性問題，更高的方阻均勻性為客戶帶來(lái)更窄的效率分布和更高的電性能良率,。更高的方阻均勻性為下一代高方阻工藝提供了可能,，能幫助客戶進(jìn)一步提升產(chǎn)品效率和競(jìng)爭(zhēng)力。本設(shè)備采用氣態(tài)硼源,，具有耗源量低和維護(hù)要求低的特點(diǎn),，運(yùn)營(yíng)成本為傳統(tǒng)技術(shù)的1/3。本設(shè)備具有行業(yè)內(nèi)**產(chǎn)能,，能幫助客戶降低固定資產(chǎn)投入和運(yùn)營(yíng)成本,。
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