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儀器簡介：

* 應(yīng)用領(lǐng)域

- 常規(guī)的光致發(fā)光測(cè)量,；

- III-V族 化合物半導(dǎo)體材料摻雜水平分析,、合成組分分析、帶隙分析等

- LD,， LED研發(fā),，生產(chǎn)中品質(zhì)分析，控制

-熒光檢測(cè)

-EPI-Wafer auto PL Mapping

-鉆石,，珠寶鑒定,，內(nèi)含物分析等。

擴(kuò)展使用:

-PLE(PL 激發(fā)）

-TRPL（time-resolved PL)

-TDPL(temperature dependent PL)

-Micro-PL

-Confocal PL

-nano PL by using Nsom(near -field scanning optical microscope

主要特點(diǎn)：

儀器特點(diǎn) ：

• 高品質(zhì)及中等價(jià)位的PL掃描系統(tǒng)(可選配自動(dòng)樣品掃描裝置，實(shí)現(xiàn)ｍａｐｐｉｎｇ功能),；

• 波長范圍寬廣(UV-VIS-NIR,，)；

• 設(shè)備堅(jiān)固,，安全,，更多于競(jìng)爭(zhēng)公司產(chǎn)品的特點(diǎn)（如快速mapping檢測(cè)）

• 噪聲低，高PL信號(hào)探測(cè),；

•　可選配多種激發(fā)源（多種波長激光源）

• 設(shè)計(jì)緊湊,，易于調(diào)諧；

• 各種激發(fā)激光源可選,；

• 光譜分析軟件可獲得光譜帶寬,，峰值波長，峰值副瓣鑒別,、光譜數(shù)據(jù)運(yùn)算,。。,。。

•　可實(shí)現(xiàn)同時(shí)對(duì)膜厚及反射率的檢測(cè)

•　雙PL峰分離功能

,。,。。,。,。。,。

本系統(tǒng)主要的特點(diǎn)：

1,。除激光外，同時(shí)可使用分光計(jì)和樣品chamber組合而成,。

2,。利用He-Cd laser，laser power meter對(duì)可調(diào)節(jié)光強(qiáng)的ND filter和laser光強(qiáng)進(jìn)行監(jiān)控

3,。分光計(jì)部分追加了一個(gè)port,，不僅可以通過CCD探測(cè)器進(jìn)行測(cè)定，也可通過PMT/IR Detector進(jìn)行測(cè)定,。

4,。為了去除來自分光計(jì)2nd order的光，利用laser line filter控制cut off filter和laser的plasma line,。

根據(jù)客戶的需要可與如下裝置一起裝配：

１,。ＰＬ＋Micro Raman(顯微拉曼系統(tǒng)）

２。ＰＬ＋Ｃｒｙｏｓｔａｔ（低溫裝置，４Ｋ,，７７Ｋ,。。）

３,。ＰＬ＋ＰＬＥ

４,。ＰＬ＋ＰＬＥ＋ＡＴＲ

。,。,。