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全譜直讀光譜儀9800L
應(yīng)用領(lǐng)域
全譜直讀光譜儀9800L是我公司引進(jìn)歐洲技術(shù)生產(chǎn),,是目前先進(jìn)的國際認(rèn)為的CCD光譜儀技術(shù), 廣泛應(yīng)用于冶金,、鑄造,、機(jī)械、汽車制造,、航空航天,、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制,,爐前化驗(yàn),,中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。落地式全譜直讀光譜儀9800L體積小,、穩(wěn)定性好,、檢測限低、分析速度快,、運(yùn)行成本低,、操作維護(hù)方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇,。
產(chǎn)品優(yōu)勢
1,、先進(jìn)的CCD全譜光譜儀制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))、通道不受限制 ,;
2,、引進(jìn)歐洲技術(shù)、同國際光譜儀技術(shù)同步,,國內(nèi)一家也能生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商,;
3、基體范圍內(nèi)通道改變,、增加不需費(fèi)用,;
4、升級多基體方便,,無須變動增加硬件,;
5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,,同一樣品不同的時(shí)間段分析,,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性;
6,、體積小,、重量輕, 移動安裝方便,;
7,、高集成度、高可靠性,、高穩(wěn)定性,;
8、節(jié)電,、節(jié)材,、能耗只是普通光譜儀50%。
主要特點(diǎn)
1,、可測定包括痕量碳(C),,磷(P),硫(S)元素,,適用于多種金屬基體,,如:鐵基,鋁基,,銅基,,鎳基,鉻基,,鈦基,鎂基,,鋅基,錫基和鉛基,。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素,;
2,、分析速度快捷,,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分,。針對不同的分析材料,,通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線,,使儀器用較短的時(shí)間達(dá)到較優(yōu)的分析效果,;
3,、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室, 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室,,實(shí)現(xiàn)光路直通,,消除了光路損耗,提高檢出限,,測定結(jié)果準(zhǔn)確,,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性較佳;
4,、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),,使真空室容積更小,抽真空速度不到普通光譜儀的一半,;
5,、自動光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描,,確保接收的正確性,,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線,與原存儲線進(jìn)行對比,,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定,;
6,、開放式的電及架設(shè)計(jì),可以調(diào)整的樣品夾,,便于各種形狀和尺寸的樣品分析,;
7、工作曲線采用國際標(biāo)樣,,預(yù)做工作曲線,,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,,自動扣除干擾,;
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,,適應(yīng)各種不同材料 ,;
9、固態(tài)吸附阱,,防止油氣對光室的污染,,提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性;
10,、銅火花臺底座,,提高散熱性及堅(jiān)固性能;
11,、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì),,使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短,為用戶節(jié)省氬氣,,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半,;
12、采用鎢材料電及,,電及使用壽命更長,,并設(shè)計(jì)了電及自吹掃功能,清潔電及更加容易,;
13,、高性能DSP及ARM處理器,具有高高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實(shí)時(shí)監(jiān)測光室溫度,、真空度,、氬氣壓力,、光源、激發(fā)室等模塊 的運(yùn)行狀況,;
14,、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,,外部計(jì)算機(jī)升級與儀器配置無關(guān),,使儀器具有更好的適用性;
15,、核心器件全部原裝進(jìn)口,,保證了儀器優(yōu)良的品質(zhì)。
技術(shù)參數(shù)
1,、光學(xué)系統(tǒng)
光學(xué)結(jié)構(gòu):帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
光室溫度:自動控制恒溫:35℃±0.5℃
波長范圍:160-800nm
光柵焦距:350 mm
光柵刻線:3600 l/mm
Ⅰ級光譜線色散率:1.2 nm/mm
探測器:多塊高性能線陣CCD
平均分辨率:10pm/pixel
2,、激發(fā)臺
氣體:沖氬式
氬氣流量:激發(fā)時(shí)3-5L/min, 待機(jī)時(shí):無須待機(jī)流量
電及:鎢材噴射電及技術(shù)
吹掃:點(diǎn)擊自吹掃功能
補(bǔ)償:熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì)
分析間隙:樣品臺分析間隙:4mm
3,、激發(fā)光源
類型:HEPS數(shù)字化固態(tài)光源
頻率:100-1000Hz
放電電流:1-80A
特殊技術(shù):放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)
預(yù)燃:高能預(yù)燃技術(shù)
4,、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
處理器:高性能ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理
接口:基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸
5,、電源與環(huán)境要求
輸入:220VAC 50Hz
功率:分析時(shí)(max)700W,,待機(jī)狀態(tài)40W
工作溫度:10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h)
工作濕度:20-80%
6、尺寸與重量
尺寸:800*450*500 mm
重量:120Kg
暫無數(shù)據(jù),!