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在高精度薄膜分析的膜厚測(cè)量?jī)x基礎(chǔ)上,，增加安裝了自動(dòng)角度調(diào)節(jié)裝置,，實(shí)現(xiàn)高速的薄膜測(cè)量和高精度的化學(xué)常數(shù)解析。可拆卸緩速器和旋轉(zhuǎn)分析儀也拓寬了測(cè)量的選擇范圍,，提高了測(cè)量精度,。FE-5OOOS 雖然和FE-5000有相同的基本功能，但是價(jià)格低,，體積小,。膜厚測(cè)量?jī)x的用途也得到擴(kuò)大。

— 可對(duì)應(yīng)各種選配,，膜厚的特制解析

測(cè)量項(xiàng)目:

-測(cè)量橢圓參數(shù)（TANψ,，COSΔ）

-光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析

-薄膜厚度分析

應(yīng)用范圍:

半導(dǎo)體晶圓

柵氧化膜,，氮化膜

SiO2,，SixOy，SiN,，SiON,，SiNx，Al2O3,，SiNxOy,，poly-Si,，ZnSe,，BPSG，TiN

光學(xué)常數(shù)（波長(zhǎng)色散）

復(fù)合半導(dǎo)體

AlxGa（1-x）多層膜,、非晶硅

FPD

取向膜

等離子顯示器用ITO,、MgO等

各種新材料

DLC（類(lèi)金剛石碳）、超導(dǎo)薄膜,、磁頭薄膜

光學(xué)薄膜

TiO2,，SiO2多層膜、防反射膜,、反射膜

光刻領(lǐng)域

g線(xiàn)（436nm）,、h線(xiàn)（405nm）、i線(xiàn)（365nm）和KrF（248nm）等波長(zhǎng)的n,、k評(píng)估

原理

包括s波和p波的線(xiàn)性偏振光入射到樣品上,，對(duì)于反射光的橢圓偏振光進(jìn)行測(cè)量。s波和p波的位相和振幅獨(dú)立變化,，可以得出比線(xiàn)性偏振光中兩種偏光的變換參數(shù),，即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。

測(cè)量示例：

1）考慮到表面粗糙度測(cè)量膜厚度值[FE-0008]

當(dāng)樣品表面存在粗糙度（Roughness）時(shí),，將表面粗糙度和空氣（air）及膜厚材料以1：1的比例混合,，模擬為“粗糙層”,，可以分析粗糙度和膜厚度。以下介紹了測(cè)量表面粗糙度為幾nm的SiN（氮化硅）的情況,。

測(cè)量示例：

1）考慮到表面粗糙度測(cè)量膜厚度值[FE-0008]

當(dāng)樣品表面存在粗糙度（Roughness）時(shí),，將表面粗糙度和空氣（air）及膜厚材料以1：1的比例混合，模擬為“粗糙層”,，可以分析粗糙度和膜厚度,。以下介紹了測(cè)量表面粗糙度為幾nm的SiN（氮化硅）的情況。

2）使用非干涉層模型測(cè)量封裝的有機(jī)EL材料[FE-0011]

有機(jī)EL材料易受氧氣和水分的影響,，并且在正常大氣條件下它們可能會(huì)發(fā)生變質(zhì)和損壞,。因此，在成膜后立即用玻璃密封,。以下介紹在密封狀態(tài)下通過(guò)玻璃測(cè)量膜厚度的情況,。玻璃和中間空氣層使用非干涉層模型。

產(chǎn)品特點(diǎn):

-可分析納米級(jí)多層薄膜的厚度

-可在紫外和可見(jiàn)（250至800nm）波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行橢偏測(cè)量

-可通過(guò)超過(guò)400ch的多通道光譜快速測(cè)量Ellipso光譜

-通過(guò)可變反射角測(cè)量,，可詳細(xì)分析薄膜

-通過(guò)創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)和追加菜單注冊(cè)功能,，增強(qiáng)操作便利性

-通過(guò)層膜貼合分析的光學(xué)常數(shù)測(cè)量可控制膜厚度/膜質(zhì)量

*1可以驅(qū)動(dòng)偏振器，可以分離不感帶有效的位相板,。*2取決于短軸•角度,。*3對(duì)應(yīng)微小點(diǎn)（可選）*4它是使用VLSI標(biāo)準(zhǔn)SiO2膜（100nm）時(shí)的值。*5可以在此波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行選擇,。*6光源因測(cè)量波長(zhǎng)而異,。*7選擇自動(dòng)平臺(tái)時(shí)的值。