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FE-SPL高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描探針光刻系統(tǒng)
FE-SPL高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描探針光刻系統(tǒng)

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德國(guó)Nano analytik成立于2010年4月,技術(shù)源自德國(guó)伊爾梅瑙科技大學(xué),,是德國(guó)耶拿分析儀器股份有限公司分支企業(yè),,公司的核心競(jìng)爭(zhēng)力在于傳感器、微系統(tǒng)和控制技術(shù),,公司宗旨是讓納米分析技術(shù)快速簡(jiǎn)易化,,在保證科研嚴(yán)謹(jǐn)性的同時(shí)提高科研效率。

德國(guó)Nano analytik研發(fā)了一款基于新型掃描探針的超高分辨掃描探針光刻SPL系統(tǒng),??稍诖髿猸h(huán)境下,高經(jīng)濟(jì)效益,、快速直寫(xiě)10納米以下結(jié)構(gòu)和制備納米級(jí)器件,。該系統(tǒng)的閉環(huán)回路可實(shí)現(xiàn)使用同一掃描探針對(duì)納米結(jié)構(gòu)的成像、定位,、檢測(cè)和操縱,。

該高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描探針光刻FE-SPL系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于納米級(jí)微電子器件制備,納米操控,,多工藝套刻,,納米流體控制,超材料研究,,納米光電器件,,表面等離子激元,高分辨掩膜板或納米壓印模板的制備工作,。

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