日韩av在线高清免费毛片日韩欧美一级成人|女人18以后毛片|国产18女人毛多水多毛片|乱系列人妻视频|中文字幕久久熟女人妻av|91麻豆人妻|校花被我玩弄|父女乱荡|高潮videossex潮喷另类|日本在线观看人妻,黑人侵犯日本人妻,色哟哟视频线在线播放欧美,亚洲欧美国产国产一区第二页

RIBE反應(yīng)離子束刻蝕系統(tǒng)

NIE-4000（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕產(chǎn)品概述：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成,。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,，樣品表面采用厚膠作為掩模層,，刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱,。除非可以找到有效的方式消除熱量，否則光刻膠將變得非常難以去除。

NANO-MASTER技術(shù)已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內(nèi)的同時,，旋轉(zhuǎn)晶圓片以達到想要的均勻度,。

NIE-4000（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕產(chǎn)品特點：

• 14.5”不銹鋼立體離子束腔體

• 16cm DC離子槍1200eV，650mA,， 氣動不銹鋼遮板

• 離子束中和器

• 氬氣MFC

• 6”水冷樣品臺

• 晶片旋轉(zhuǎn)速度3、10RPM,，真空步進電機

• 步進電機控制晶圓片傾斜

• 自動/手動上下載晶圓片

• 典型刻蝕速率：銅200 ?/min,， 硅：500 ?/min

• 6”范圍內(nèi),，刻蝕均勻度+/-3%

• 極限真空5x10-7Torr，20分鐘內(nèi)可達到10-6Torr級別（配套500 l/s渦輪分子泵）

• 配套1000 l/s渦輪分子泵,，極限真空可達8x10-8Torr

• 磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化

• 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

• 菜單驅(qū)動,，4級密碼訪問保護

• 完整的安全聯(lián)鎖

NIE-4000（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕 Features：

• 14.5" SS Cube ion beam chamber

• 16 cm DC Ion gun 1000V,， 500 mA ，DC motor driven SS shutters

• Ion Beam neutralizer

• Ar MFC

• Chilled water cooled 6” substrate platen

• Wafer rotation 3-10 RPM,， Vacuum stepper motor

• Wafer Tilt with a stepper motor through differentially pumped rotational seal

• Manual/Auto wafer load/unload

• Typical Etch Rates: 200 ?/min Cu,， 500 ?/min Si

• +/-3% etch uniformity over 6“ area

• 5x 10^-6 Torr < 20 minutes <2 x10^-7 Torr (2 days) Base Pressure with 500 l/sec turbo

• 8x10^-8 Torr Base pressure with 1000 l/sec Turbo pump

• Magnetron Sputtering of Si₃N₄ to protect etched metal surfaces from oxidation

• PC Controlled with LabVIEW Software

• Recipe Driven,， Password Protected

• Fully Safety Interlocked