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立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器,！
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像,。平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米,，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性,。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比,，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間,。（**加工率：硅元素為300微米/小時(shí) — 加工時(shí)間減少了66%,。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸樣品臺(tái)裝置：
為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣，可將樣品臺(tái)裝置拆卸。
特點(diǎn) |
· 混合模式：兩種研磨配置斷面加工：將樣品斷面研磨光滑,，便于表面高分辨觀察平面研磨：不同角度有選擇地,，大面積，均勻地研磨5 mm的平面,，以突顯樣品的表面特性 · · 高效：提高加工效率與之前的E-3500型相比,，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間(**加工速度：硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時(shí)間減少了66%) · · 可拆卸式樣品臺(tái)：為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨,，樣品臺(tái)設(shè)計(jì)為可拆卸型 · |
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