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GHB-T4加熱狀態(tài)

一,、優(yōu)勢：

1、制樣量大10分鐘約做4個樣,。

2,、鉑黃金坩堝用量少節(jié)省資金。

3,、不需要擺動功能，轉動停止坩堝始終停止在水平位置,，減少了機械故障,。

4、操作安全冷卻后再取放樣,。

5,、缺點是坩堝底部粗糙后需要打磨光或者重新加工。

二,、用途及適用范圍：

XRF高頻熔樣爐是與X射線熒光光譜分析儀配套使用的一種熔融法制樣設備,。也可用于原子吸收光譜儀（ＡＡ）和感應藕合等離子體（ＩＣＰ）分析樣品的溶液制作。

在X射線熒光光譜分析中,，樣品處理是否恰當對檢測準確度影響很大,，熔融制樣法是準確度和重復性，也是技術要求較高的一種方法,。在各類企業(yè)生產過程控制,、產品質量控制、地質礦產分析,、環(huán)保材料和科學研究等領域都廣泛使用,。

適用于鋼鐵,、水泥、陶瓷,、玻璃,、耐火材料、有色金屬冶煉,、地礦,、商檢、涂料,、磷化工,、鈦白粉，脫硝脫硫催化劑等行業(yè),，礦物,、原料、半成品或成品樣品的熔樣,。