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總部位于德國(guó)柏林科技園區(qū)的SENTECH儀器公司，已成為光伏生產(chǎn)設(shè)備世界市場(chǎng)之 一.我們是一家快速發(fā)展的中型公司,，擁有60多名員工,，他們是我們有價(jià)值的資產(chǎn)我們団 隊(duì)的每個(gè)成員都為公司的成功做出貢獻(xiàn)，我們總是在尋找與我們志同道合的新工作伙伴,，我 們誠(chéng)摯期待您的加入,。

等離子刻蝕設(shè)備

ICP-RIE等離子刻蝕機(jī)SI500

產(chǎn)品介紹

高端等離子刻蝕設(shè)備SI 500使用低離子； 能量的電感耦合等離子體用于低損傷刻: 蝕和納米結(jié)構(gòu)刻蝕,。

通過(guò)在廣泛的溫度: 范圍內(nèi)的動(dòng)態(tài)溫度控制確保了可重復(fù)且穩(wěn)定的等離子刻蝕條件,。深反應(yīng)等離子；

刻蝕（硅,，III-V族半導(dǎo)體,，MEMS）可: 采用低溫工藝和室溫下的氣體切換工藝: 來(lái)實(shí)現(xiàn)。

特點(diǎn)

*低損傷刻蝕 ?高速刻蝕

*自主研發(fā)的ICP等離子源

*動(dòng)態(tài)溫度控制

RIE等離子刻蝕機(jī)Etchlab 200

產(chǎn)品介紹：

經(jīng)濟(jì)型等離子刻蝕設(shè)備EtchLab 200具備 低成本效益高的特點(diǎn),，并且支持揭蓋直接 放置樣片,。

EtchLab 200允許通過(guò)載片 器，實(shí)現(xiàn)多片工藝樣品的快速裝載,，也可 以直接快速地把樣品裝載

在電極上,。RIE等離子體刻蝕設(shè)備具備占地面積小,， 模塊化和靈活性等設(shè)計(jì)特點(diǎn).

特點(diǎn)

*低成本效益高

*升級(jí)擴(kuò)展性

*SENTECH控制軟件

RIE等離子刻蝕機(jī)SI 591

產(chǎn)品介紹

SI 591特別適用于采用氟基和氣基 :氣體的工藝，可以通過(guò)預(yù)真空室和電 :腦控制的等離子

工藝系統(tǒng)實(shí)現(xiàn),。SI 591的特點(diǎn)是占地空間小,，高度靈活性，

例如,，SI 591可作為單一反應(yīng)腔系統(tǒng)集成在多腔系統(tǒng)中,。

特點(diǎn)

工藝靈活性

*占地面積小且模塊化程度高

*SENTECH控制軟件