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儀器簡介：

國產(chǎn)PDC系列等離子清洗（處理）機(jī)是一種表面處理設(shè)備， 用氣體作為處理介質(zhì),，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)以電能將氣體轉(zhuǎn)換為化學(xué)反應(yīng)性和活性很高的氣體等離子體,，等離子體對固體樣品表面進(jìn)行相互作用，引起分子結(jié)構(gòu)改變,，從而對樣品表面的有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗和使樣品表面改性,，以獲得希望的表面特性。用氣體作為處理介質(zhì)有效地避免了對環(huán)境和樣品帶來的二次污染,。等離子清洗器外接一臺真空泵,，工作時氣體等離子體輕柔沖刷樣品的表面，短時間就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉,，同時污染物被真空泵抽走,，其清洗能力達(dá)到分子級,。等離子清洗器可對樣品的表面改性，加強(qiáng)樣品的粘附性,、相容性和浸潤性,，也可對樣品消毒和殺菌。

國產(chǎn)PDC系列等離子清洗機(jī)是針對國外等離子清洗器價格貴,，難以推廣等缺點,，吸取了現(xiàn)有國內(nèi)外等離子清洗機(jī)的優(yōu)點，結(jié)合中國用戶的需求和使用習(xí)慣,，利用現(xiàn)代先進(jìn)的科技手段而開發(fā)生產(chǎn)出的新型系列等離子清洗機(jī),。它除具有一般等離子清洗機(jī)的優(yōu)點外，更具有性價比高,，使用成本低，特別易于維護(hù)的優(yōu)點,，而且可選性極強(qiáng),，可以滿足各種用戶不同使用目的對設(shè)備的特殊需求。清洗艙的材料有耐熱玻璃,、不銹鋼可選,；不銹鋼清洗艙有圓形、方形可選,；清洗艙的尺寸可根據(jù)用戶的實際需要制定,；清洗艙中工裝支架可根據(jù)用戶清洗件的尺寸量身定做。

技術(shù)參數(shù)：

型號規(guī)格：PDC－MG

1.整機(jī)規(guī)格：500×300×300（長×寬×高）mm

2.整機(jī)重量：35 Kg

3.清洗艙規(guī)格：Φ165×L210 mm (耐熱玻璃)

4.清洗艙有效容積：4.5 L

5.輸入電源：220 V／50 Hz

6.整機(jī)輸入功率：400 W

7.射頻輸出：0～150 W（連續(xù)可調(diào)）8.射頻頻率：13.56 MHz

9.數(shù)字式定時器范圍：0～99.99 min

10.極限真空度：60 Pa

11.二路浮子流量計：0.2~1.5L/min量程,，方便二種氣體按比例混合

12.觀察窗：觀察清洗倉內(nèi)輝光狀態(tài)

13.常用工作氣體：空氣,、氬氣、氮氣或混合氣體

型號規(guī)格：PDC－BGS

整機(jī)規(guī)格：600×550×1280（長×寬×高）mm

整機(jī)重量：120 Kg

反應(yīng)艙規(guī)格：Φ240×L340 mm (耐熱玻璃)

反應(yīng)艙有效容積：15 L

輸入電源：380（三相）V／50Hz

整機(jī)輸入功率：2000 W（含真空泵）

射頻功率：0～400Ｗ（連續(xù)可調(diào)）

射頻頻率：13.56 MHz

數(shù)字定時器：0～99.99 min

極限真空度：50 Pa

二路浮子流量計：0.2～1.5 L／min 量程,，方便二種氣體按比例混合

觀察窗： 觀察清洗艙內(nèi)輝光狀態(tài)

常用工作氣體： 空氣,、氬氣、氮氣或混合氣體等

型號規(guī)格：PDC－BGM

整機(jī)規(guī)格：600×600×1400（長×寬×高）mm

整機(jī)重量：300 Kg

反應(yīng)艙規(guī)格：380×380×380（長×寬×高）mm(不銹鋼)

反應(yīng)艙有效容積：50 L

輸入電源：380（三相）V／50Hz

整機(jī)輸入功率：2000 W（含真空泵）

射頻功率：0～400Ｗ（連續(xù)可調(diào)）

射頻頻率：13.56 Hz

數(shù)字定時器：0～99.99 min

極限真空度： 50 Pa

浮子流量計： 0.1～1.6 L／min 量程

觀察窗： 觀察清洗艙內(nèi)輝光狀態(tài)

常用工作氣體： 空氣,、氬氣,、氮氣或混合氣體等

型號規(guī)格：PDC－BGL

整機(jī)規(guī)格：750×780×1660（長×寬×高）mm

整機(jī)重量：400 Kg

反應(yīng)艙規(guī)格：600×470×470（長×寬×高）mm(不銹鋼)

反應(yīng)艙有效容積：110 L

輸入電源：380（三相）V／50Hz

整機(jī)輸入功率：2500 W（含真空泵）

射頻功率：0～1000Ｗ（連續(xù)可調(diào)）

射頻頻率：13.56 MHz

數(shù)字定時器：0～99.99 min

極限真空度： 50 Pa

浮子流量計： 0.1～1.6 L／min 量程

觀察窗： 觀察清洗艙內(nèi)輝光狀態(tài)

常用工作氣體： 空氣、氬氣,、氮氣或混合氣體等

可根據(jù)用戶需要設(shè)計制作國產(chǎn)專用等離子清洗及處理設(shè)備,。

主要特點：

整機(jī)一體化、結(jié)構(gòu)緊湊,、安裝方便,。

常溫條件下對樣品進(jìn)行非破壞性超清洗。

徹底清除樣品表面的有機(jī)污染物,。

氣體清洗介質(zhì)使樣品清洗后無二次污染,。

設(shè)備操作簡單方便,，使用成本極低，易于維護(hù),。

具有表面清洗,、表面活化、表面刻蝕和表面沉積的功能,。

應(yīng)用領(lǐng)域：

LED,、LCD、PCB,、觸電子生產(chǎn)領(lǐng)域中的超清洗,。

移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),，去除金屬材料表面的氧化物,。

清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板,、ATR元件,、人工晶體、天然晶體和寶石,。

封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,，增強(qiáng)其粘附性，適用于直接封裝殛粘和,。

涂覆鍍膜領(lǐng)域中對玻璃,、塑料、陶瓷,、高聚合物等材料表面改性,，使其活化，增強(qiáng)

表面粘附性,、浸潤性,、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量,。