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等離子清洗器——*理想的超清洗設(shè)備
等離子清洗器是一種小型化、快速,、非破壞性并無化學(xué)污染的臺式射頻氣體放電超清洗設(shè)備,主要用于需要表面超清洗的許多領(lǐng)域中,,它也被用于一些材料表面化學(xué)改性。等離子清洗器清洗介質(zhì)采用惰性氣體,,有效避免了其它清洗方法使用液體清洗介質(zhì)對被清洗物所帶來的二次污染,。等離子清洗器有一個清洗腔,外接一個標(biāo)準(zhǔn)真空泵,,開機(jī)后清洗腔中的氣體在高頻高壓下產(chǎn)生電磁場,,從而形成的等離子體輕柔地沖擊被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使被清洗物表面的有機(jī)污染物被逐步徹底地清洗掉,,同時污染物被真空泵抽走,。對某些特殊用途的材料,在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性,、相容性和侵潤性,,并使這些材料得到了消毒。用戶可以根據(jù)清洗需要選擇不同的配件(石英清洗腔,、石英支架等),。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)材料、半導(dǎo)體工業(yè),、生物芯片,、生物醫(yī)學(xué)、牙科,、高分子科學(xué)等各個方面,。
應(yīng)用領(lǐng)域如下:
1、清洗光學(xué)器件,、電子元件,、激光器件、鍍膜基片、芯片
· 清洗光學(xué)鏡片,、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片
· 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)
· 清洗ATR元件,、各種形狀的人工晶體,、天然晶體和寶石
· 清洗半導(dǎo)體元件,、印刷線路板
· 清洗生物芯片,、微流控芯片
· 清洗沉積凝膠的基片
2,、牙科領(lǐng)域:對硅酮壓模材料和鈦制牙移植物的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤性和相容性
3,、醫(yī)用領(lǐng)域:修復(fù)學(xué)上移植物的表面預(yù)處理,,增強(qiáng)其浸潤性,、粘附性和相容性,醫(yī)療器械的消
毒和殺菌
4,、改善粘接光學(xué)元件,、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料,、宇航材料等所用膠水的粘和力
5,、去除金屬材料表面的氧化物
6、使玻璃,、塑料,、陶瓷、高聚合物等材料表面活化,,增強(qiáng)其表面粘附性、浸潤性,、相容性
7,、高分子材料表面修飾
等離子清洗器對于表面需要超清潔的所有領(lǐng)域是*理想的超清洗設(shè)備。
技術(shù)參數(shù):
型號規(guī)格:PDC-32G-2(基本型)
整機(jī)規(guī)格:8×10×8(長×寬×高)英寸
反應(yīng)艙規(guī)格:Φ3×L6.5英寸耐熱玻璃
輸入電源:220V/50Hz
整機(jī)輸入功率:100 W
射頻功率檔:低檔680V DC,、10mA DC,、6.8W
中檔700V DC、15mA DC,、10.5W
高檔720V DC,、25mA DC、18W
特征:緊湊的臺式設(shè)備,應(yīng)用一個**功率為18瓦的RF線圈,,沒有RF輻射,,符合CE安全標(biāo)準(zhǔn),艙蓋可拆卸,。
型號規(guī)格:PDC—002(擴(kuò)展型)
整機(jī)規(guī)格:9×18×11(長×寬×高)英寸
反應(yīng)艙規(guī)格:Φ6×L6.5英寸耐熱玻璃
輸入電源:220V/50Hz
整機(jī)輸入功率:200 W
射頻功率檔:低檔716V DC,、10mA DC、7.16W
中檔720V DC,、15mA DC,、10.15W
高檔740V DC、40mA DC,、29.6W
特征:緊湊的臺式設(shè)備,,沒有RF幅射,符合CE安全標(biāo)準(zhǔn),。反應(yīng)艙蓋具備鉸鏈,、磁力鎖及可視窗口。
選配件:
石英等離子清洗艙
提供各自計量兩種不同氣體進(jìn)氣和監(jiān)測壓力的氣體計量混合器Plasma FLOTM
需要:
兼容的真空泵,,*小速率為1.4 m3/hr,,**極限為200 MTorr
包括:
1/8英寸NPT針閥束引入氣體和控制壓力
主要特點(diǎn):
• 它具有性能穩(wěn)定、性價比高,、清洗效率高,、操作簡便,、使用成本極低,、易于維護(hù)。
• 各種形狀金屬,、陶瓷,、玻璃、硅片,、塑料等固體物件表面的超清洗和改性,。
• 完全徹底地清除樣品表面的有機(jī)污染物。
• 定時處理,、快速處理,、操作簡便。
• 對樣品和環(huán)境無二次污染,。
• 非破壞性處理
暫無數(shù)據(jù),!