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設(shè)備規(guī)格

襯底尺寸：標準尺寸：200mm Dia (8 inch）（可定制)
工藝溫度：溫度范圍：RT~500°C （可定制）
前驅(qū)體路數(shù)：**支持6路前驅(qū)體氣路（可定制)，包含固,、液態(tài)前驅(qū)體源瓶

加熱系統(tǒng)：可加熱溫度范圍：RT~150℃

反應物路數(shù)：支持2路反應物氣路（可定制）
載氣：標準：N2, MFC 流量控制（可定制）
壓力監(jiān)測：雙薄膜規(guī)組合（耐腐蝕),，0.005Torr - 1000Torr
本底真空度：<5x10-3 Torr
真空系統(tǒng)：標準油泵

控制系統(tǒng)：19寸顯示器,，支持觸控工業(yè)級嵌入式工控機，高可靠性,，支持擴展
操作系統(tǒng)：Win7 操作系統(tǒng)工業(yè)級可編程邏輯控制器,，支持現(xiàn)場總線與實時多任務處理操作

高溫加熱模塊：獨立的源瓶加熱模塊，可支持RT~200℃

預留模塊：預留等離子體系統(tǒng)接口,，無需更換腔體即可直接升級至等離子體系統(tǒng)（PEALD）,，實現(xiàn)Thermal-ALD與PEALD的雙模式切換

工藝

可沉積薄膜種類和應用場景包括：
? High-K介電材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta205, La2O3);
? 金屬互聯(lián)結(jié)構(gòu) (Cu, WN, TaN, Ru, In);
? 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):
? 生物醫(yī)學涂層 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN);
?金厲(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni;
? 壓電層 (ZnO, AIN, ZnS);
? 透明電學導體 (ZnO:Al, ITO);
? 光子晶體(ZnO, Ti02, Ta3N5);等

機架Cabinet

?框架采用進口鋁材搭建，重量輕,、承載能力強,，散熱性好

?外殼采用碳鋼烤漆及圓角處理，輕便美觀,，拆卸方便,，符合人體工學

?顯示屏360度自由旋轉(zhuǎn)，可調(diào)視距,、視角,、自由懸停

控制系統(tǒng)

? 控制系統(tǒng)采用 PLC+工控機+19 寸觸摸屏方式實現(xiàn)，系統(tǒng)通過高速以太網(wǎng)進行通訊,。

? 采用 PLC 對設(shè)備進行實時控制,，同時實現(xiàn)基于Windows7 操作系統(tǒng)的人機界面互動，支持歷史數(shù)據(jù),、工藝配方,、報警及日志的儲存和導入導出的功能

? 設(shè)備支持“一鍵沉積”功能，點擊運行按鍵即可自動完成真空抽取,、升溫,、材料沉積、降溫等一系列步驟,。實現(xiàn)單一或多層材料的沉積,；提供獨立的手動操作頁面,，支持手動開關(guān)閥門的操作,，人機交互同時支持鼠標,、鍵盤和觸摸的輸入方式

? 設(shè)備運行軟件提供用戶權(quán)限管理功能，可根據(jù)用戶級別設(shè)定使用權(quán)限,，防止誤操作,，保證設(shè)備和人身安全

? 設(shè)備運行軟件提供邏輯互鎖功能，防止用戶誤操作,，并彈出信息對話框進行提示

? 設(shè)備運行軟件集成安全及參數(shù)配置,、IO互鎖列表信息功能

真空系統(tǒng)

· 真空測量采用雙真空壓力計組合方式，工藝數(shù)據(jù)更真實,，更迅速,，更精確,，為工藝人員提供井真的數(shù)據(jù)采集來源，為工藝的可重復性提供了可靠的保障