射頻輝光放電光譜儀（GD）

解密鍍層工藝,、解析鍍層結(jié)構(gòu)——Profiler 2

輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段,，可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu),、層間擴(kuò)散、元素富集,、表面處理、鍍層均一性等信息,，從而改善工藝條件等,。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件,、LED芯片,、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽極,、光學(xué)玻璃,、核材料等。

GD-Profiler 2 作為超快鍍層分析的理想工具,，非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析,，操作簡單、便于維護(hù),，是鍍層材料研發(fā),、質(zhì)控的理想工具。

· 使用脈沖式射頻輝光源,，可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品,。

·  采用多項技術(shù)，如高動態(tài)檢測器（HDD）,，可測試ppm-100%的濃度范圍,，Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。

·  分析速度快（2-10nm/s）

技術(shù)參數(shù)：

1,、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置,、復(fù)合D級標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高,、濺射束斑極為平坦,、等離子體穩(wěn)定時間極短,，表面信息無任何失真。

2,、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。

3,、Polyscan多道（同時）光譜儀可全譜覆蓋,，光譜范圍從110nm-800nm，可測試遠(yuǎn)紫外元素C,、H,、O、N和Cl,。

4,、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有**的光通量，因而擁有的光效率和靈敏度,。

5,、高動態(tài)檢測器（HDD）可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素,。動態(tài)范圍為5×10¹⁰,。

6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載,。

7,、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。

8,、HORIBA特有的單色儀（選配）可極大地提高儀器靈活性,，可實現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試，稱為n+1,。

9,、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。

儀器原理：

輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,，當(dāng)施加在放電兩極的電壓達(dá)到一定值,，超過激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電，放電氣體離解為正電荷離子和自由電子,。在電場的作用下,，正電荷離子加速轟擊到（陰極）樣品表面，產(chǎn)生陰極濺射,。在放電區(qū)域內(nèi),，濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。