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Plasma 3000 雙向觀測(cè)ICP光譜儀

產(chǎn)品詳情

 鋼研納克ICP光譜儀，35年電感耦合等離子體光譜儀方法開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,重大科學(xué)儀器專(zhuān)項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,。央企品牌,，上市公司，品質(zhì)之選,！歡迎來(lái)電洽談,。聯(lián)系電話：400-62******。

儀器介紹

Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金,、地質(zhì),、材料、環(huán)境,、食品,、醫(yī)藥、石油,、化工,、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析,。

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬,，雙向觀測(cè)，冷錐消除尾焰,，具有更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更低的背景,。

固態(tài)射頻發(fā)生器，高效穩(wěn)定,，體積小巧,，匹配速度快，確保Plasma 3000 ICP光譜儀高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性,。

高速面陣 CCD 采集技術(shù),，單次曝光獲取全部譜線信息，Plasma 3000 ICP光譜儀真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”,。

功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),，簡(jiǎn)化分析方法的開(kāi)發(fā)過(guò)程。應(yīng)用工程師為ICP光譜儀用戶(hù)量身打造簡(jiǎn)潔,、舒適的操作體驗(yàn),。

技術(shù)參數(shù)

Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限：亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L）
長(zhǎng)期穩(wěn)定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光源：固態(tài)射頻發(fā)生器,，功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率：27.12MHz

輸出功率：500W-1600W 功率穩(wěn)定性：< 0.1% 

儀器規(guī)格：尺寸：寬 x 深 x 高（2650px x 1675px x 1875px） 重  量：約 180kg

光學(xué)系統(tǒng)：分析譜線范圍：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm 光室恒溫：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024,；單像素面積：24μm x 24μm 

實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境：相對(duì)濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.995%

排  風(fēng)：不小于 400 立方米 / 小時(shí)

電  源：200V~240V AC 單相,；50Hz~60Hz；4kVA

儀器特點(diǎn)

分光系統(tǒng)

Plasma 3000 ICP光譜儀采用徑向觀測(cè)與軸向觀測(cè)設(shè)計(jì),，適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測(cè)量,。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，使用CaF2棱鏡,，提高光路傳輸效率,。 優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì)，采用非球面光學(xué)元件,，改善成像質(zhì)量,，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù),，縮短光室充氣時(shí)間,，提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性，開(kāi)機(jī)即可測(cè)量,。 包圍式立體控溫系統(tǒng),，保障光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定無(wú)漂移。

光源

固態(tài)射頻發(fā)生器,，高效穩(wěn)定,，體積小巧，效率高,，匹配速度快,，鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測(cè)試，均能獲得優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性,。 垂直炬管的設(shè)計(jì),，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求,，降低了備用炬管的消耗,。 冷錐消除尾焰技術(shù)，**程度地降低自吸效應(yīng)和電離干擾,，從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更 低的背景,，保證準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式,，待機(jī)時(shí)降低輸出功率,，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行,，節(jié)約使用成本,。

簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì)，快速定位,，精確的位置重現(xiàn),。 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線,，保障通訊高效可靠,。

進(jìn)樣系統(tǒng)

簡(jiǎn)潔的炬管安裝設(shè)計(jì)，自動(dòng)定位炬管位置,，精確的位置重現(xiàn),。鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀配備系列經(jīng)過(guò)優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng)，可用于有機(jī)溶劑,、高鹽/復(fù)雜基體樣品,、含氫氟酸（HF） 等樣品的測(cè)試。

使用可拆卸式或一體式炬管,，易于維護(hù),，轉(zhuǎn)換快速，使用成本低,。Plasma 3000 ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣,、輔助氣和載氣的流量，保障測(cè)試性能長(zhǎng)期穩(wěn)定,。 多通道12滾輪蠕動(dòng)泵,，提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

檢測(cè)器

大面積背照式CCD檢測(cè)器,全譜段響應(yīng),，高紫外量子化效率,，抗飽和溢出，具有極寬的動(dòng)態(tài)范 圍和極快的信號(hào)處理速度,。 一次曝光,，完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取，從而獲得更為快速,、準(zhǔn)確的分析結(jié)果,。Plasma 3000 ICP光譜儀具有同類(lèi)產(chǎn)品中**靶面尺寸，***像素,，單像素面積24μm X 24μm,，三級(jí)半導(dǎo)體制冷,制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性,。

軟件系統(tǒng)

人性化的界面設(shè)計(jì),，流暢易懂，簡(jiǎn)便易用,，針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng),，無(wú)須復(fù)雜的方法開(kāi)發(fā)， 即可快速開(kāi)展分析操作,。

豐富的譜線庫(kù),，智能提示潛在干擾元素,，幫助用戶(hù)合理選擇分析譜線。 輕松的觀測(cè)方式設(shè)置,，直觀的測(cè)試結(jié)果顯示,。

安全防護(hù)

全方位電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門(mén)保護(hù),，避免用戶(hù)誤操作可能帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn) 防紫外觀測(cè)窗