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Plasma 3000 雙向觀測(cè)ICP光譜儀
Plasma 3000 雙向觀測(cè)ICP光譜儀

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

Plasma 3000

品牌

產(chǎn)地

北京

樣本

暫無(wú)
鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司

會(huì)員

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第4年

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核心參數(shù)
  • 測(cè)量范圍:

    .
  • 誤差率:

    .
  • 分辨率:

    .
  • 重現(xiàn)性:

    .
  • 儀器原理:

    其他
  • 分散方式:

    .
  • 測(cè)量時(shí)間:

    .
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Plasma 3000 雙向觀測(cè)ICP光譜儀

產(chǎn)品詳情

儀器類(lèi)型全譜型ICP觀測(cè)方式雙向觀測(cè)矩管放置垂直放置
震蕩頻率27.12MHz頻率穩(wěn)定性優(yōu)于0.01%功率穩(wěn)定性優(yōu)于0.1%
光源類(lèi)型固態(tài)光源光柵類(lèi)型中階梯光柵檢測(cè)器類(lèi)型背照式CCD
儀器尺寸106cm*67cm*75cm儀器重量180kg

 鋼研納克ICP光譜儀,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,重大科學(xué)儀器專(zhuān)項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,。央企品牌,,上市公司,品質(zhì)之選,!歡迎來(lái)電洽談,。聯(lián)系電話:400-62******。

儀器介紹

Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金,、地質(zhì),、材料、環(huán)境,、食品,、醫(yī)藥、石油,、化工,、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析,。

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬,,雙向觀測(cè),冷錐消除尾焰,,具有更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更低的背景,。

固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,,體積小巧,,匹配速度快,確保Plasma 3000 ICP光譜儀高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性,。

高速面陣 CCD 采集技術(shù),,單次曝光獲取全部譜線信息,Plasma 3000 ICP光譜儀真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”,。

功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),,簡(jiǎn)化分析方法的開(kāi)發(fā)過(guò)程。應(yīng)用工程師為ICP光譜儀用戶(hù)量身打造簡(jiǎn)潔,、舒適的操作體驗(yàn),。

技術(shù)參數(shù)

Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限:亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L)
長(zhǎng)期穩(wěn)定性:RSD ≤ 1.0%(4h,1mg/L)

光源:固態(tài)射頻發(fā)生器,,功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率:27.12MHz

輸出功率:500W-1600W 功率穩(wěn)定性:< 0.1% 

儀器規(guī)格:尺寸:寬 x 深 x 高(2650px x 1675px x 1875px) 重  量:約 180kg

光學(xué)系統(tǒng):分析譜線范圍:165-950nm

分  辨  率: 0.007nm@200nm 光室恒溫:38℃ ±0.1℃

CCD 像素:1024x 1024,;單像素面積:24μm x 24μm 

實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境:相對(duì)濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.995%

排  風(fēng):不小于 400 立方米 / 小時(shí)

電  源:200V~240V AC 單相,;50Hz~60Hz;4kVA


儀器特點(diǎn)

分光系統(tǒng)

Plasma 3000 ICP光譜儀采用徑向觀測(cè)與軸向觀測(cè)設(shè)計(jì),,適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測(cè)量,。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),使用CaF2棱鏡,,提高光路傳輸效率,。 優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì),采用非球面光學(xué)元件,,改善成像質(zhì)量,,提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù),,縮短光室充氣時(shí)間,,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開(kāi)機(jī)即可測(cè)量,。 包圍式立體控溫系統(tǒng),,保障光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定無(wú)漂移。


光源

固態(tài)射頻發(fā)生器,,高效穩(wěn)定,,體積小巧,效率高,,匹配速度快,,鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測(cè)試,均能獲得優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性,。 垂直炬管的設(shè)計(jì),,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,,降低了備用炬管的消耗,。 冷錐消除尾焰技術(shù),**程度地降低自吸效應(yīng)和電離干擾,,從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更 低的背景,,保證準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式,,待機(jī)時(shí)降低輸出功率,,減小氣體流量,僅維持等離子體運(yùn)行,,節(jié)約使用成本,。

簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì),快速定位,,精確的位置重現(xiàn),。 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù),高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線,,保障通訊高效可靠,。


進(jìn)樣系統(tǒng)

簡(jiǎn)潔的炬管安裝設(shè)計(jì),自動(dòng)定位炬管位置,,精確的位置重現(xiàn),。鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀配備系列經(jīng)過(guò)優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng),可用于有機(jī)溶劑,、高鹽/復(fù)雜基體樣品,、含氫氟酸(HF) 等樣品的測(cè)試。

使用可拆卸式或一體式炬管,,易于維護(hù),,轉(zhuǎn)換快速,使用成本低,。Plasma 3000 ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣,、輔助氣和載氣的流量,保障測(cè)試性能長(zhǎng)期穩(wěn)定,。 多通道12滾輪蠕動(dòng)泵,,提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

 

檢測(cè)器

大面積背照式CCD檢測(cè)器,全譜段響應(yīng),,高紫外量子化效率,,抗飽和溢出,具有極寬的動(dòng)態(tài)范 圍和極快的信號(hào)處理速度,。 一次曝光,,完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取,從而獲得更為快速,、準(zhǔn)確的分析結(jié)果,。Plasma 3000 ICP光譜儀具有同類(lèi)產(chǎn)品中**靶面尺寸,***像素,,單像素面積24μm X 24μm,,三級(jí)半導(dǎo)體制冷,制冷溫 度 低,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性,。

 

軟件系統(tǒng)

人性化的界面設(shè)計(jì),,流暢易懂,簡(jiǎn)便易用,,針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng),,無(wú)須復(fù)雜的方法開(kāi)發(fā), 即可快速開(kāi)展分析操作,。

豐富的譜線庫(kù),,智能提示潛在干擾元素,,幫助用戶(hù)合理選擇分析譜線。 輕松的觀測(cè)方式設(shè)置,,直觀的測(cè)試結(jié)果顯示,。

 

安全防護(hù)

全方位電磁屏蔽,減少電磁輻射 連鎖門(mén)保護(hù),,避免用戶(hù)誤操作可能帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn) 防紫外觀測(cè)窗


創(chuàng)新點(diǎn)

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用戶(hù)評(píng)論

產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性?xún)r(jià)比

10分
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