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| 項 目 | 單位 | DPL(P)120 | DPL(P)140 | DPL(P)160 | DPL(P)200 |
| 上下磨盤尺寸 (外徑×內(nèi)徑×厚度) | mm | ?1140×370×50 | ?1370×460×60 | ?1590×560×70 | ?1992×688×70 |
| 加工件**尺寸 | mm | ?332 | ?333 | ?334 | ?335 |
| 被加工件精度 | μm | 整盤工件厚度差≤6μm 單片厚度差≤3μm 底盤跳動度≤2μm 上下盤平行度≤5μm | 整盤工件厚度差≤8μm 單片厚度差≤4μm 底盤跳動度≤2μm 上下盤平行度≤5μm | 整盤工件厚度差≤10μm 單片厚度差≤5μm 底盤跳動度≤2μm 上下盤平行度≤10μm | 整盤工件厚度差≤15μm 單片厚度差≤8μm 底盤跳動度≤4μm 上下盤平行度≤8μm |
| 氣源壓力 | MPa | 6 | 6 | 6 | 6 |
整機尺寸 | mm | 1800×1400×2200 | 2250×1700×2500 | 2540×2000×2250 | 3250×2500×3250 |
| 整機重量 | Kg | 7500 | 12000 | 14000 | 22000 |
研磨拋光機
用途：本產(chǎn)品主要用于硅，鍺,、石英晶體,、玻璃、陶瓷,、藍寶石等硬脆性材料制作的薄片零件的研磨,、拋光。 特點：本產(chǎn)品通過上下定盤的反正旋轉(zhuǎn),，使工件在兩者之間既做公轉(zhuǎn)又做自轉(zhuǎn)的行星運動,，通過連續(xù)滴下的研磨劑，同時研磨工件兩個端面,。使之摩擦阻力小,、受力均勻、磨削精度和穩(wěn)定性好,。 由于產(chǎn)品的研磨盤是消耗品,，需要定期更換。故在設計時把橫梁設計成可旋轉(zhuǎn)機構,，克服了研磨盤更換需要拆卸上研磨盤等問題,。 本產(chǎn)品把主氣缸的上下氣路環(huán)通，把氣源提供的氣合理的利用起來,，不造成任何浪費,。該氣路設計還通過比例閥實現(xiàn)中心加壓過程。實現(xiàn)了該種機型一機兩用的功能,，既可研磨,、也可拋光,。 |
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