參考價(jià)格
20-30萬(wàn)元型號(hào)
1200℃雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)品牌
中環(huán)產(chǎn)地
天津樣本
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產(chǎn)品用途：
此款CVD生長(zhǎng)系統(tǒng)適用于CVD工藝,，如碳化硅鍍膜,、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng),、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn),。
產(chǎn)品組成：
此款CVD系統(tǒng)配置：
1.1200度開(kāi)啟式真空管式爐（可選配單溫區(qū)、雙溫區(qū)）,。
2.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
3.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
產(chǎn)品特點(diǎn)：
1 控制電路選用模糊PID程控技術(shù),，該技術(shù)控溫精度高，熱慣性小,，溫度不過(guò)沖,，性能可靠，操作簡(jiǎn)單,。
2 氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司獨(dú)有的知識(shí)產(chǎn)權(quán)**設(shè)計(jì),提高操作便捷性,。
3 中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動(dòng)控制功能，高真空系統(tǒng)采用高壓強(qiáng),，耐沖擊分子泵
防止意外漏氣造成分子泵損壞,，延長(zhǎng)系統(tǒng)使用壽命。
系統(tǒng)名稱(chēng) | 1200℃單/雙溫區(qū)CVD系統(tǒng) | |
系統(tǒng)型號(hào) | CVD-12II-3Z/G | CVD-12II6-3Z/G |
**溫度 | 1200℃ | |
加熱區(qū)長(zhǎng)度 | 420mm | 600mm |
恒溫區(qū)長(zhǎng)度 | 280mm | 390mm |
溫區(qū) | 雙溫區(qū) | 雙溫區(qū) |
石英管管徑 | Φ50/Φ60/Φ80mm | Φ80/Φ100mm |
額定功率 | 3.2Kw | 4.8Kw |
額定電壓 | 220V | |
溫度控制 | 國(guó)產(chǎn)程序控溫系統(tǒng)50段程序控溫,； | |
控制精度 | ±1℃ | |
爐管**工作溫度 | ＜1200℃ | |
氣路法蘭 | 密封法蘭與管件連接的地方采用多環(huán)密封技術(shù),，在密封法蘭與管外壁間形成了密封，在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效,，該密封法蘭的安裝只需在**次使用設(shè)備的時(shí)候安裝 | |
氣體控制方式 | 質(zhì)量流量計(jì) | |
氣路數(shù)量 | 3路（可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量） | |
流量范圍 | 0-500sccm(標(biāo)準(zhǔn)毫升/分,，可選配）氮?dú)鈽?biāo)定 | |
精度 | ±1%F.S | |
響應(yīng)時(shí)間 | ≤4sec | |
工作溫度 | 5-45℃ | |
工作壓力 | 進(jìn)氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力） | |
系統(tǒng)連接方式 | 采用KF快速連接波紋管、高真空手動(dòng)擋板閥及數(shù)顯真空測(cè)量?jī)x | |
規(guī)格 | 高真空 | |
系統(tǒng)真空范圍 | 1x10-3Pa-1x10-1Pa | |
真空泵 | 真空分子泵理論極限真空度5x10-6Pa抽氣速度1200L/S額定電壓220V 功率2KW | 真空分子泵理論極限真空度5x10-6Pa抽氣速度1600L/S額定電壓220V 功率2KW |
爐體外形尺寸 | 340×580×555mm | 480×770×605mm |
系統(tǒng)外形尺寸 | 530x1440x750mm(不含高真空) | |
系統(tǒng)總重量 | 330kg | |
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實(shí)驗(yàn)電爐作為材料科學(xué),、冶金工程、化學(xué)分析等領(lǐng)域中不可或缺的實(shí)驗(yàn)設(shè)備,，廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校,、科研機(jī)構(gòu)及工礦企業(yè)的實(shí)驗(yàn)室和小批量生產(chǎn)線(xiàn)上。它們主要用于定量分析燒結(jié),、灰化試驗(yàn),，以及金屬材料的退火,、淬火等熱處理
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