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ALD原子層沉積系統(tǒng)
ALD原子層沉積系統(tǒng)

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

SAL1000G

品牌

產(chǎn)地

樣本

暫無(wú)
凱戈納斯儀器商貿(mào)(上海)有限公司

會(huì)員

|

第7年

|

生產(chǎn)商

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SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子層沉積系統(tǒng),,具有良好的均勻性及優(yōu)越的階梯覆蓋性能,使用戶(hù)能夠精確控制每個(gè)原子層的沉積,。通過(guò)手套箱,,可在惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行操作,并且可以防止吸入納米級(jí)顆粒,。該設(shè)備是小型且經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的型號(hào),,與主機(jī)和控制電源相結(jié)合,追求僅在桌面上更容易操作,。 它能夠處理多達(dá)4“晶圓的沉積,,并對(duì)每個(gè)部件采取安全措施。

AGUS提供沉積測(cè)試服務(wù)作為我們支持的一部分,,以提高實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)確性,。請(qǐng)隨時(shí)與凱戈納斯儀器商貿(mào)(上海)有限公司聯(lián)系。

- 多樣性 -

· 真空可移動(dòng)的手套箱可以處理易氧化的樣品,。

· 前驅(qū)體標(biāo)配兩組閥門(mén)和氣瓶,。

· 可選擇將前驅(qū)體加熱至200攝氏度。

· 可選擇基片自動(dòng)旋轉(zhuǎn)支架,。

· 可選擇粉體沉積配件,。

· 可選擇經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的廢氣處理設(shè)備。

1.jpg

- 表現(xiàn) -

· 保證基片表面上的每個(gè)均勻原子層針孔自由層沉積。

· 通過(guò)階梯覆蓋沉積在不均勻或3D形狀的表面,。

· 與CVD和PVD相比,,可以獲得更好的沉積,特別是對(duì)于具有更高縱橫比和多孔沉積材料,。

- 操作界面友好 -

· 觸摸屏使用戶(hù)可以輕松設(shè)置配方或沉積過(guò)程,,并檢查每個(gè)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)。

· 可進(jìn)行自動(dòng)沉積,,并在沉積完成后自動(dòng)完成N2排放,。

· 手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動(dòng)完成。

- 安全性 -

· 這是具有各種互鎖功能的高級(jí)設(shè)備,。

 - 具有輕柔關(guān)閉功能的頂部艙口使用戶(hù)可以輕松地裝載和卸載基片,。

 

性能

真空度

到達(dá)壓力

≤5Pa

成膜性能

膜厚分布

≤± 3% (φ 100mm)

設(shè)備構(gòu)成

設(shè)備型號(hào)

SAL1000G

成膜方向

下表面

基底尺寸

φ 100mm or 4 inch Max

基底加熱器溫度

350℃ Max

前驅(qū)體數(shù)

2

前驅(qū)體溫度

150℃ Max

凈化氣體

N2 (氣體控制:帶流量計(jì)針型閥)

手套箱

有機(jī)玻璃,真空-氮?dú)獯祾呤?/p>

真空泵

162L/min 旋片式真空機(jī)械泵

重量

本體:50kg,,手套箱:35kg,,真空泵:27kg

可選配置

基片自動(dòng)旋轉(zhuǎn)支架

粉體沉積配件

廢氣處理設(shè)備

前驅(qū)體加熱器- 200℃

安裝要求

電源要求

電源

3相、 200V ± 10% ,、15A ,、50/60Hz

接地

<100Ω

線(xiàn)纜

5m 附贈(zèng)

N2吹掃氣體

供給壓力

0.1 ~.0.2Mpa

接口

1/4 Swagelok

壓縮空氣

供給壓力

0.6 ~0.8Mpa

接口

φ6mm 接口

真空泵排氣口

排氣口

KF-25法蘭

設(shè)備排氣口

排氣口

φ38mm x   L28軟管適配器

安裝尺寸

W1000 x D700 x H900


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用戶(hù)評(píng)論

產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性?xún)r(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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公司動(dòng)態(tài)
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ALD原子層沉積系統(tǒng)信息由凱戈納斯儀器商貿(mào)(上海)有限公司為您提供,,如您想了解更多關(guān)于ALD原子層沉積系統(tǒng)報(bào)價(jià)、型號(hào),、參數(shù)等信息,,歡迎來(lái)電或留言咨詢(xún)。
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