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均勻分散不沉降 納米氧化鋁水性漿料研磨機，氧化鋁水性漿料納米研磨分散機,氧化鋁水性漿料超細(xì)研磨分散機,氧化鋁漿料研磨分散機

IKN研磨分散具有設(shè)計緊湊,、實用新型,，外形美觀、密封良好,、性能穩(wěn)定,、操作方便、裝修簡單,、經(jīng)久耐用,、適應(yīng)范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點、是處理精細(xì)物料*理想的加工設(shè)備,。

氧化鋁的核心應(yīng)用

氧化鋁具有硬度高,、化學(xué)穩(wěn)定性好等優(yōu)點，已被廣泛應(yīng)用在陶瓷,、無機膜,、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑,、有機溶劑的脫水,、吸附劑、催化劑,、冶煉鋁的原料,、耐火材料。

氧化鋁的分散問題

近年來,，已將超細(xì)氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復(fù)合材料受到人們的廣泛關(guān)注,。但超細(xì)氧化鋁粉體比表面積大，表面活性高,，單個超細(xì)顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài),，顆粒之間因為相互吸引而團(tuán)聚，易于失去超細(xì)粉體特有的性能,，因此超細(xì)氧化鋁粉體的分散，是超細(xì)氧化鋁粉體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵,。

在水溶液中,，氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團(tuán)聚，出現(xiàn)絮凝,，分層等現(xiàn)象,，破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點,。影響穩(wěn)定性的因素有很多,，如：分散劑種類及用量、分散設(shè)備的選擇,、粉體的粒度及表面性質(zhì),、PH值、溫度等,。

當(dāng)物料工藝確定后,，影響分散穩(wěn)定性的**因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小,，沉降越慢,、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備，來獲得更好的物料粒徑,，提高分散的均勻性,，推薦CMSD2000系列研磨分散機，獨特的結(jié)構(gòu),，膠體磨+分散機一體化設(shè)備,，14000rpm超高轉(zhuǎn)速，效果好,、效率高,。

氧化鋁水性漿料分散設(shè)備推薦

結(jié)合多家化工企業(yè)案例，我司推薦CMSD2000系列研磨式超高速分散機進(jìn)行氧化鋁的研磨和分散,，一般可獲得超細(xì)的物料粒徑,，一般為1μm左右。當(dāng)然還要看具體的物料工藝,，以及原始狀態(tài),。

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率,，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒,、中齒、細(xì)齒,、超細(xì)齒,、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機,，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好,，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率,。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%