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10-20萬元型號
HTF1200-5/20-4F-HV品牌
皓越科技產地
上海樣本
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產品應用
高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長高質量石墨烯,、碳納米管、碳化硅的專用設備,，廣泛應用于在半導體,、納米材料,、碳纖維、碳化硅,、鍍膜等新材料新工藝領域,。
產品特點
高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體、石英管,、石英支架,、氣路系統(tǒng)、分子泵機組,、自動化控制系統(tǒng),、冷卻系統(tǒng)等組成。
1,、沉底材料可采用銅箔,、石墨等;
2、生長腔體采用進口高純石英管,，配石英支架,、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環(huán)境;
3、爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維,，不易掉粉,、壽命長且保溫性能好。加熱絲采用優(yōu)質摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲,，溫場均勻,，能耗低；
4,、密封法蘭均采用不銹鋼材質,，配水冷套，可連續(xù)長時間工作;
5,、氣路系統(tǒng)采用兩路質量流量計(可拓展多路),配預混系統(tǒng);
6,、氣體種類： He/Ar、C2H2,、NH3,、N2, H2、PH3,、GeH4,、B2H6；
7,、溫度,、氣體、真空,、冷卻水等通過PLC控制,，通過PC實時控制和顯示相關的實驗參數,，自動保存實驗參數，也可采用手動控制,；
8,、系統(tǒng)采用集成化設計，控制系統(tǒng),、混氣罐,、質量流量計等均內置在箱體內部，占地面積小,。整體安裝四個可移動輪子,，方便整體移動。
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上海皓越產品圖片 
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