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CVD管式爐
CVD管式爐

參考價格

10-20萬元

型號

HTF1200-5/20-4F-HV

品牌

皓越科技

產地

上海

樣本

暫無
上海皓越電爐技術有限公司

會員

|

第7年

|

生產商

工商已核實

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核心參數
  • 適用物料:

    多種可用
  • 操作方式:

    間歇式
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產品應用

    高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長高質量石墨烯,、碳納米管、碳化硅的專用設備,,廣泛應用于在半導體,、納米材料,、碳纖維、碳化硅,、鍍膜等新材料新工藝領域,。

產品特點

高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體、石英管,、石英支架,、氣路系統(tǒng)、分子泵機組,、自動化控制系統(tǒng),、冷卻系統(tǒng)等組成。

1,、沉底材料可采用銅箔,、石墨等;

2、生長腔體采用進口高純石英管,,配石英支架,、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環(huán)境;

3、爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維,,不易掉粉,、壽命長且保溫性能好。加熱絲采用優(yōu)質摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲,,溫場均勻,,能耗低;

4,、密封法蘭均采用不銹鋼材質,,配水冷套,可連續(xù)長時間工作;

5,、氣路系統(tǒng)采用兩路質量流量計(可拓展多路),配預混系統(tǒng);

6,、氣體種類: He/Ar、C2H2,、NH3,、N2, H2、PH3,、GeH4,、B2H6;

7,、溫度,、氣體、真空,、冷卻水等通過PLC控制,,通過PC實時控制和顯示相關的實驗參數,,自動保存實驗參數,也可采用手動控制,;

8,、系統(tǒng)采用集成化設計,控制系統(tǒng),、混氣罐,、質量流量計等均內置在箱體內部,占地面積小,。整體安裝四個可移動輪子,,方便整體移動。


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1.77MB 2018-08-17
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產品質量

10分

售后服務

10分

易用性

10分

性價比

10分
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