參考價(jià)格
10-20萬(wàn)元型號(hào)
HTF1200-5/20-4F-HV品牌
皓越科技產(chǎn)地
上海樣本
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產(chǎn)品應(yīng)用
高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長(zhǎng)高質(zhì)量石墨烯、碳納米管,、碳化硅的專用設(shè)備,，廣泛應(yīng)用于在半導(dǎo)體、納米材料,、碳纖維,、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域,。
產(chǎn)品特點(diǎn)
高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體,、石英管、石英支架,、氣路系統(tǒng),、分子泵機(jī)組、自動(dòng)化控制系統(tǒng),、冷卻系統(tǒng)等組成,。
1,、沉底材料可采用銅箔、石墨等;
2,、生長(zhǎng)腔體采用進(jìn)口高純石英管,，配石英支架、為石墨烯等材料的生長(zhǎng)提供潔凈環(huán)境;
3,、爐膛采用進(jìn)口高純氧化鋁多晶體纖維,，不易掉粉、壽命長(zhǎng)且保溫性能好,。加熱絲采用優(yōu)質(zhì)摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲,，溫場(chǎng)均勻，能耗低,；
4,、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì)，配水冷套,，可連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間工作;
5,、氣路系統(tǒng)采用兩路質(zhì)量流量計(jì)(可拓展多路),配預(yù)混系統(tǒng);
6、氣體種類： He/Ar,、C2H2,、NH3、N2, H2,、PH3,、GeH4、B2H6,；
7,、溫度、氣體,、真空,、冷卻水等通過(guò)PLC控制，通過(guò)PC實(shí)時(shí)控制和顯示相關(guān)的實(shí)驗(yàn)參數(shù),，自動(dòng)保存實(shí)驗(yàn)參數(shù),，也可采用手動(dòng)控制；
8,、系統(tǒng)采用集成化設(shè)計(jì),，控制系統(tǒng)、混氣罐,、質(zhì)量流量計(jì)等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部,，占地面積小。整體安裝四個(gè)可移動(dòng)輪子,，方便整體移動(dòng),。
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上海皓越產(chǎn)品圖片 
真空爐無(wú)廢氣、煙塵,，無(wú)廢水,、廢渣，無(wú)環(huán)境污染,，改善了勞動(dòng)條件,，被稱作光亮熱處理、清潔熱處理和綠色熱處理,。真空爐加熱工件無(wú)氧化,、無(wú)脫碳、無(wú)合金元素貧化,，脫脂脫氣,，真空提純，避免氫脆,，能實(shí)現(xiàn)
真空燒結(jié)爐是利用感應(yīng)加熱對(duì)被加熱物品進(jìn)行保護(hù)性燒結(jié)的爐子,，可分為工頻,、中頻、高頻等類型,，可以歸屬于真空燒結(jié)爐的子類,。真空感應(yīng)燒結(jié)爐是在真空或保護(hù)氣氛條件下，利用中頻感應(yīng)加熱的原理使硬質(zhì)合
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氣壓燒結(jié)爐的用途： 主要用于在高溫高壓條件下，金屬陶瓷材料,，化學(xué)高純的單晶材料,、納米相材料、梯度功能材料等高性能材料的制備,。對(duì)于大型工件,，設(shè)計(jì)了“底裝料”結(jié)構(gòu)爐型，裝卸料方便,，尤其在脫脂,、氣壓燒
使用壓力爐能夠大幅度的提高合金產(chǎn)品的質(zhì)量和性能,。作為一種全新的提高硬質(zhì)合金產(chǎn)品質(zhì)量的有力手段,，它受到越來(lái)越多國(guó)內(nèi)外合金生產(chǎn)企業(yè)的重視,，成為了高性能合金生產(chǎn)必需的重要裝備?！ 毫t的基本功能和結(jié)構(gòu)
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CVD管式爐的工作原理介紹,？CVD管式爐的使用方法？CVD管式爐多少錢(qián)一臺(tái),？CVD管式爐使用的注意事項(xiàng)CVD管式爐的說(shuō)明書(shū)有嗎,？CVD管式爐的操作規(guī)程有嗎？CVD管式爐的報(bào)價(jià)含票含運(yùn)費(fèi)嗎,？CVD管式爐有現(xiàn)貨嗎,？CVD管式爐包安裝嗎？
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