參考價(jià)格
10-20萬(wàn)元型號(hào)
HTF1200-5/20-4F-HV品牌
皓越科技產(chǎn)地
上海樣本
暫無(wú)適用物料:
多種可用操作方式:
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產(chǎn)品應(yīng)用
高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長(zhǎng)高質(zhì)量石墨烯,、碳納米管,、碳化硅的專用設(shè)備,廣泛應(yīng)用于在半導(dǎo)體,、納米材料,、碳纖維、碳化硅,、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域,。
產(chǎn)品特點(diǎn)
高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體、石英管,、石英支架,、氣路系統(tǒng),、分子泵機(jī)組、自動(dòng)化控制系統(tǒng),、冷卻系統(tǒng)等組成,。
1、沉底材料可采用銅箔,、石墨等;
2,、生長(zhǎng)腔體采用進(jìn)口高純石英管,配石英支架,、為石墨烯等材料的生長(zhǎng)提供潔凈環(huán)境;
3,、爐膛采用進(jìn)口高純氧化鋁多晶體纖維,不易掉粉,、壽命長(zhǎng)且保溫性能好,。加熱絲采用優(yōu)質(zhì)摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲,溫場(chǎng)均勻,,能耗低,;
4、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì),,配水冷套,,可連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間工作;
5、氣路系統(tǒng)采用兩路質(zhì)量流量計(jì)(可拓展多路),配預(yù)混系統(tǒng);
6,、氣體種類: He/Ar,、C2H2、NH3,、N2, H2,、PH3、GeH4,、B2H6,;
7、溫度,、氣體,、真空、冷卻水等通過PLC控制,,通過PC實(shí)時(shí)控制和顯示相關(guān)的實(shí)驗(yàn)參數(shù),,自動(dòng)保存實(shí)驗(yàn)參數(shù),也可采用手動(dòng)控制,;
8、系統(tǒng)采用集成化設(shè)計(jì),,控制系統(tǒng),、混氣罐,、質(zhì)量流量計(jì)等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部,占地面積小,。整體安裝四個(gè)可移動(dòng)輪子,,方便整體移動(dòng)。
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真空爐無(wú)廢氣,、煙塵,無(wú)廢水,、廢渣,,無(wú)環(huán)境污染,改善了勞動(dòng)條件,,被稱作光亮熱處理,、清潔熱處理和綠色熱處理。真空爐加熱工件無(wú)氧化,、無(wú)脫碳,、無(wú)合金元素貧化,脫脂脫氣,,真空提純,,避免氫脆,能實(shí)現(xiàn)
真空燒結(jié)爐是利用感應(yīng)加熱對(duì)被加熱物品進(jìn)行保護(hù)性燒結(jié)的爐子,,可分為工頻、中頻,、高頻等類型,,可以歸屬于真空燒結(jié)爐的子類。真空感應(yīng)燒結(jié)爐是在真空或保護(hù)氣氛條件下,,利用中頻感應(yīng)加熱的原理使硬質(zhì)合
真空熱壓爐的結(jié)構(gòu)詳細(xì)說(shuō)明: (一)真空熱壓爐爐體部分: 真空熱壓爐爐體為立式爐殼其內(nèi)層為不銹鋼制成的園筒外層為碳鋼。兩層之間形成夾套可以通冷卻水
氣壓燒結(jié)爐的用途: 主要用于在高溫高壓條件下,,金屬陶瓷材料,,化學(xué)高純的單晶材料、納米相材料,、梯度功能材料等高性能材料的制備,。對(duì)于大型工件,設(shè)計(jì)了“底裝料”結(jié)構(gòu)爐型,,裝卸料方便,,尤其在脫脂,、氣壓燒
使用壓力爐能夠大幅度的提高合金產(chǎn)品的質(zhì)量和性能,。作為一種全新的提高硬質(zhì)合金產(chǎn)品質(zhì)量的有力手段,,它受到越來(lái)越多國(guó)內(nèi)外合金生產(chǎn)企業(yè)的重視,成為了高性能合金生產(chǎn)必需的重要裝備,?! 毫t的基本功能和結(jié)構(gòu)
氫氣爐的控制采用自動(dòng)控制與手動(dòng)控制兩種,,并且能相互切換,。自動(dòng)控溫為分段程序控溫儀,能按工藝曲線要求升溫,,滿足各種工藝要求,,水、氣壓均有壓力控制,,實(shí)現(xiàn)流量報(bào)警,,聲、光顯示,。噴漆色彩協(xié)調(diào),,外觀美觀大方