編號：FTJS02305
篇名：太陽能硅制備過程濕法提純SiO_2的研究
作者：劉宏宇,； 湯培平,； 王文賓,； 徐敏,； 朱麗,； 陳云霞,；
關(guān)鍵詞：太陽能硅,； SiO2,； 濕法冶金； 酸浸,； 提純,；
機(jī)構(gòu)： 廈門大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院；
摘要： 研究了SiO2體系中去除金屬和非金屬雜質(zhì)的方法.考察了浸出劑濃度,、溫度,、反應(yīng)時間、攪拌等因素的影響,采用ICP,、SEM等對產(chǎn)品進(jìn)行了表征,分析了不同工藝條件對雜質(zhì)去除率的影響程度.當(dāng)工藝條件為:w(HF)=1.0%與w(H2C2O4)=1.5%在100℃溫度下處理60~150目的石英粉4 h,Fe,、Ca和P的去除率分別達(dá)到了99.8%,72.7%和67.8%,濕法冶金可以去除SiO2中的絕大部分Fe雜質(zhì)和大部分Ca和P雜質(zhì),反應(yīng)前30 min為化學(xué)反應(yīng)控制,后轉(zhuǎn)為內(nèi)擴(kuò)散控制.
