編號(hào)：NMJS01776
篇名：塊體納米晶工業(yè)純鐵在0.4 mol/L HCl溶液中的電化學(xué)腐蝕行為
作者：孫淼,； 張艷,； 王勝剛；
關(guān)鍵詞：塊體納米晶工業(yè)純鐵(BNII),； 深度軋制,； 鹽酸溶液； 腐蝕,；
機(jī)構(gòu)： 沈陽(yáng)工業(yè)大學(xué),； 中國(guó)科學(xué)院金屬研究所；
摘要： 借助動(dòng)電位極化和電化學(xué)阻抗譜（EIS）測(cè)量,研究塊體納米晶工業(yè)純鐵（BNII）和粗晶工業(yè)純鐵（CPII）在室溫0.4 mol/L HCl溶液中的電化學(xué)腐蝕行為;用掃描電子顯微鏡（SEM）觀察腐蝕后的表面形貌.結(jié)果表明,與CPII相比,BNII的自腐蝕電位Ecorr正向移動(dòng)43 mV,自腐蝕電流Icorr由68.37μA·cm-2減小為29.55μA·cm-2;電荷轉(zhuǎn)移電阻Rt由427.0Ω·cm2增大到890.1Ω·cm-2.兩種材料發(fā)生的點(diǎn)蝕呈不同的形態(tài):BNII的點(diǎn)蝕孔小而淺,腐蝕深度比較均勻,而CPII的腐蝕表面形成的點(diǎn)蝕孔深且孔徑較大.與CPII相比,BNII在HCl溶液中的耐腐蝕性能明顯提高. 更多還原
