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介質(zhì)阻擋放電等離子體射流制備碳納米顆粒

編號:NMJS01746

篇名:介質(zhì)阻擋放電等離子體射流制備碳納米顆粒

作者:張禹濤,; 黃篤之,; 孫航賓,; 郭英; 王達(dá)望,;

關(guān)鍵詞:納米粒子,; 冷等離子體; 輝光放電;

機(jī)構(gòu): 湖南科技大學(xué)物理學(xué)院,; 湖南科技大學(xué)計(jì)算機(jī)科學(xué)與工程學(xué)院,; 大連理工大學(xué)三束材料改性教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;

摘要: 氬氣介質(zhì)阻擋放電等離子體射流在常溫常壓下可以產(chǎn)生大量高能電子等活性粒子,本文利用它分解乙醇溶液制備碳納米顆粒,。該射流是由一臺30 kV,、50 kHz高壓交流電源激勵(lì)。相對于傳統(tǒng)方法,該系統(tǒng)不需要高溫或真空環(huán)境,也不需要使用催化劑,常溫常壓即可進(jìn)行,。采用掃描電鏡和EDX對產(chǎn)物進(jìn)行表征,發(fā)現(xiàn)顆粒粒徑大小是由放電參數(shù)決定的,對高壓絲狀放電模式,平均粒徑約100-300 nm;對低壓絲狀放電模式,減小到50-90 nm;對高壓類輝光模式,繼續(xù)減小到8-10 nm;對低壓類輝光模式,進(jìn)一步減小到2-5 nm,可以形成均勻的薄膜。

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