編號(hào)：NMJS01699
篇名：直流熱陰極PCVD法摻氮納米金剛石薄膜形貌及結(jié)構(gòu)的影響
作者：王明磊； 彭鴻雁,； 尹龍承,； 祁文濤； 姜宏偉,；
關(guān)鍵詞：直流熱陰極,； PCVD； 納米金剛石膜,； 摻氮,；
機(jī)構(gòu)： 牡丹江師范學(xué)院新型碳基功能與超硬材料黑龍江省重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室；
摘要： 采用直流熱陰極等離子體化學(xué)氣相沉積(PCVD)技術(shù),通過(guò)在CH4/H2的混合反應(yīng)氣源中通入不同流量的N2,合成了摻氮納米金剛石薄膜,。結(jié)果表明隨著氮?dú)饬髁康脑黾?金剛石薄膜表面形貌發(fā)生明顯變化:晶粒細(xì)化,晶界和缺陷有所增多,膜層由尺寸較大微晶顆粒轉(zhuǎn)向納米級(jí)菜花狀結(jié)構(gòu),并且薄膜表面粗糙度相應(yīng)變小,。同時(shí)薄膜中非金剛石組份相對(duì)逐漸增多。氮?dú)獾囊肟梢源龠M(jìn)金剛石二次形核,抑制金剛石大顆粒生長(zhǎng),對(duì)薄膜的生長(zhǎng)取向,、形貌及結(jié)構(gòu)都產(chǎn)生一定影響,。
