編號(hào)：NMJS01598
篇名：不同制備pH值對(duì)納米Co_3O_4光催化脫色性能的影響
作者：王紹華,； 鐘俊波,； 李建章； 曾�,�,；
關(guān)鍵詞：Co3O4； 并流沉淀,； 甲基橙,； 光催化性能；
機(jī)構(gòu)： 四川理工學(xué)院化學(xué)與制藥工程學(xué)院,；
摘要： 采用并流沉淀法在不同pH值下制備了納米Co3O4,用X-射線衍射(XRD),、比表面(BET)、掃描電鏡(SEM)和熱重-差熱(TG-DTA)對(duì)所制備的材料進(jìn)行了表征,。以甲基橙為模擬污染物,考察了納米Co3O4光催化脫色性能,。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:不同制備pH值對(duì)Co3O4表面參數(shù),形貌,晶粒大小、熱分解行為及光催化脫色性能影響顯著,。pH控制在8.5左右時(shí)所制備納米Co3O4具有最高的比表面,、最低的孔徑、最小的粒徑和最好的光催化活性,光照1小時(shí)對(duì)甲基橙溶液的脫色率達(dá)到40%,。
