編號(hào)：NMJS01327
篇名：調(diào)制比對(duì)TiB_2/TiAlN納米多層膜結(jié)構(gòu)和機(jī)械性能的影響
作者：劉思鵬; 鄧湘云; 李德軍;
關(guān)鍵詞：磁控濺射; TiB2/TiAlN納米多層膜; 調(diào)制比; 硬度;
機(jī)構(gòu)： 天津師范大學(xué)物理與電子信息學(xué)院;
摘要： 利用射頻磁控濺射技術(shù)在室溫下合成了具有納米調(diào)制周期的TiB2/TiAlN多層膜.分別采用X射線衍射儀(XRD),、表面輪廓儀,、納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)和多功能材料表面性能實(shí)驗(yàn)儀分析了調(diào)制比對(duì)TiB2/TiAlN納米多層膜結(jié)構(gòu)和機(jī)械性能的影響.結(jié)果表明:大部分多層膜的納米硬度和彈性模量值均高于兩種個(gè)體材料混合相的值,在調(diào)制比為tTiB2∶tTiAlN=5∶2時(shí),多層膜體系的硬度超過36GPa,其他機(jī)械性能也達(dá)到較佳效果.
