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隨著現(xiàn)代觸控技術(shù)的不斷進(jìn)步,，未來觸控面板將往大尺寸化,、低價化,，可彎曲折疊化方向發(fā)展,。傳統(tǒng)ITO薄膜由于存在導(dǎo)電性差,、成本昂貴,、不可彎曲等本質(zhì)問題而發(fā)展受限,。金屬網(wǎng)格工藝技術(shù)為大尺寸低電阻,、窄邊框提供了有力技術(shù)支持，該技術(shù)可以將柔性觸控屏尺寸從智能手機(jī)的常用面板尺寸覆蓋到86英寸以上,。采用金屬網(wǎng)格透明導(dǎo)電膜來替代ITO透明導(dǎo)電膜已成為未來趨勢,。目前常用的金屬網(wǎng)格工藝是，通過顯影,、蝕刻等工藝在PET膜上得到預(yù)留凹槽(寬度≤3μm),；再將導(dǎo)電銀漿刮涂入刻蝕的預(yù)留凹槽中，進(jìn)行低溫固化,，形成金屬網(wǎng)格觸控電極及周邊引線,，得到金屬網(wǎng)格電容式觸摸屏。該工藝方法由于工藝簡單,，成本低,、透光性好，產(chǎn)品柔性高等優(yōu)勢，逐步成為觸摸屏柔性化,、大尺寸,、輕薄化發(fā)展的重要趨勢。

  在上述工藝技術(shù)中,，銀漿是其核心原材料之一,。觸摸屏導(dǎo)電銀漿，是一種高銀含量超細(xì)銀粉低溫導(dǎo)電銀漿,，采用獨(dú)特的工藝將超細(xì)銀粉和高分子樹脂精研而成,。為了達(dá)到高透明度、高導(dǎo)電率的要求,，銀漿的電阻率要小,，且填充于槽內(nèi)的銀漿經(jīng)過低溫固化后，必須與基材具有極佳的結(jié)合力和機(jī)械性能,。目前常用三輥機(jī)來分散銀漿,，但是顆粒細(xì)度比較大，分散性也不好,，無法有效填充于3微米超細(xì)溝槽內(nèi),。另外，著色用的碳漿也存在上述問題,。

       為了解決上述技術(shù)問題,，我們提供了用TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)，制作觸摸屏用銀漿和碳漿的方法,。

1. TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)介紹：

TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)采用高壓噴射原理,，能夠在短時間內(nèi)產(chǎn)生巨大的剪切力，碰撞力,，氣穴力,，從而將大量能量集中作用于物料，使物料的成分以完全的均質(zhì)的狀態(tài)存在,，能夠大幅提升效率,。

TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)不堵不漏，采用10寸工業(yè)觸控屏,，可實(shí)時監(jiān)控壓力曲線圖,，最高壓力可達(dá)4000bar。

圖1 均質(zhì)機(jī)原理圖

圖2 TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)

2. 實(shí)驗(yàn)描述：

先用混料脫泡機(jī)預(yù)分散銀漿或碳漿,，然后采用TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī),，均質(zhì)分散樣品，并研究不同均質(zhì)次數(shù)對漿料分散穩(wěn)定性的影響,。分別采用LISICO分散均質(zhì)分析測試儀或LUMiSizer分散穩(wěn)定性分析儀,，測試樣品的穩(wěn)定性,。

3.實(shí)驗(yàn)過程及測試結(jié)果：

3.1．銀漿：

采用TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)，將銀漿樣品在2500bar壓力下分別處理1至5遍,。

圖3 用TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)處理銀漿

采用LISICO分散均質(zhì)分析測試儀,，測試均質(zhì)前后銀漿樣品的分散穩(wěn)定性，結(jié)果如圖5所示,。

圖4 LISICO 分散均質(zhì)分析測試儀

由圖5可知,，均質(zhì)1次后，銀漿樣品的弛豫時間有所增加,，分散穩(wěn)定性變差,；繼續(xù)均質(zhì)幾次，樣品的弛豫時間減小至均質(zhì)前的水平,，表明其分散穩(wěn)定性變化不大,。粒徑測試結(jié)果表明，均質(zhì)前的TDS-0樣品的D50粒徑為5微米,；均質(zhì)4次后,，TDS-4樣品的粒徑降至2.5微米。此外,，電性能也較均質(zhì)前提高10%左右,。

圖5均質(zhì)前后銀漿樣品的弛豫時間

此外我們也采用LUMiSizer分散穩(wěn)定性分析儀，測試銀漿樣品的穩(wěn)定性,，結(jié)果如圖7所示,。

圖6 LUMiSizer穩(wěn)定性分析儀（測試條件：4000 g，16h,，25℃）

圖7 均質(zhì)前后銀漿樣品的不穩(wěn)定性指數(shù)對比

采用STEP技術(shù),，可以定量分析穩(wěn)定性,，得出每個樣品的“不穩(wěn)定性指數(shù)”,。不穩(wěn)定性指數(shù)越小，表明體系越穩(wěn)定,。由銀漿樣品的不穩(wěn)定指數(shù)柱狀圖可知,，就實(shí)驗(yàn)全過程來看，樣品的不穩(wěn)定性順序依次為：TDS-4<TDS-0=TDS-1<TDS-5<TDS-3<TDS-2,其中TDS-4樣品最穩(wěn)定,。

3.2．碳漿：

采用TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī),，將碳漿樣品在2500bar壓力下分別處理1至5遍。

圖8均質(zhì)前后碳漿樣品的弛豫時間

由圖8可知,，均質(zhì)1次后,，碳漿樣品的弛豫時間大幅減小，分散穩(wěn)定性變好,；繼續(xù)均質(zhì)幾次,，碳漿樣品的弛豫時間與均質(zhì)前相當(dāng),。表明均質(zhì)次數(shù)不能過多，否則對分散穩(wěn)定性有不利的影響,。

4.  結(jié)論：

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