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大塚電子（蘇州）有限公司 2023-02-09 點(diǎn)擊691次
MCPD series 薄膜在線測量設(shè)備是光學(xué)式測量系統(tǒng),，可以以非接觸和非破壞性的方式測量薄膜厚度、透過率,、顏色等,。
可測量的膜厚范圍為 65 nm 到 92 μm,。（以折射率n=1.5換算）
采用分光干涉法測量原理,，支持多層膜厚測量,，同時(shí)實(shí)現(xiàn)高重復(fù)性精度,。采用獨(dú)創(chuàng)的算法，可以高速實(shí)時(shí)監(jiān)控,，非常適合于薄膜在線測量,。
| 產(chǎn)品信息 |
特 點(diǎn)
● 膜厚測量范圍 65 nm ~ 92 μm（SiO2換算）
多點(diǎn)測量點(diǎn)切換對(duì)應(yīng)系統(tǒng)
導(dǎo)軌測量系統(tǒng)
在導(dǎo)軌測量系統(tǒng)中，通過導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)在TD方向掃描,，以任意寬度和任意間距測量TD方向的膜厚分布,。可以用作涂層的條件設(shè)置和運(yùn)行時(shí)的實(shí)時(shí)監(jiān)控,。
通過導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)橫向移動(dòng)進(jìn)行多點(diǎn)測量,，無需準(zhǔn)備多個(gè)檢測器或數(shù)據(jù)處理單元。
真空環(huán)境下的多點(diǎn)反射 · 透過光譜測量
與各種法蘭兼容的耐真空光纖,，可以在高真空下測量反射 · 透射光譜,。此外,，采用大塚電子獨(dú)創(chuàng)算法,，不易受基膜上下移動(dòng)的影響，高精度測量薄膜膜厚,?？勺鳛閷?shí)時(shí)監(jiān)控使用。
| 規(guī)格式樣 |
MCPD-9800
| 型號(hào) | MCPD-9800 | ||||||||
| 2285C | 3095C | 3683C | 311C | 916C | |||||
| 測量波長范圍（nm） | 220～850 | 300～950 | 360～830 | 360～1100 | 900～1600 | ||||
| 膜厚范圍※ | 65nm～35μm | 65nm～50μm | 65nm～45μm | 65nm～49μm | 180nm～92μm | ||||
| 膜厚/反射/透過/相位差 | 〇 | ||||||||
| 色測量 | 〇 | × | |||||||
| 掃描時(shí)間 | 5ms～20s | 1ms～10s | |||||||
| 測量光斑 | φ1.2mm | ||||||||
| 光纖長度 | 1m～ 光纖長度需提前協(xié)商 | ||||||||
※膜厚值以n=1.5換算,。并與式樣相關(guān),。
MCPD-6800
| 型號(hào) | MCPD-6800 | |||
| 2285C | 3095C | 3683C | 3610C | |
| 測量波長范圍（nm） | 220～850 | 300～950 | 360～830 | 360～1000 |
| 膜厚范圍※ | 65nm～35μm | 65nm～50μm | 65nm～45μm | 65nm～49μm |
| 膜厚/反射/透過/相位差/色測量 | 〇 | |||
| 掃描時(shí)間 | 16ms～65s | |||
| 測量光斑 | φ1.2mm | |||
| 光纖長度 | １ｍ～ 光纖長度需提前協(xié)商 | |||
※膜厚值以n=1.5換算。并與式樣相關(guān),。