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名 稱：上海皓越電爐技術(shù)有限公司認(rèn) 證：工商信息已核實
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產(chǎn)品分類
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產(chǎn)品簡介
產(chǎn)品應(yīng)用
高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長高質(zhì)量石墨烯,、碳納米管、碳化硅的專用設(shè)備,，廣泛應(yīng)用于在半導(dǎo)體,、納米材料、碳纖維,、碳化硅,、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域。
產(chǎn)品特點
高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體,、石英管,、石英支架、氣路系統(tǒng),、分子泵機組,、自動化控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等組成,。
1、沉底材料可采用銅箔,、石墨等;
2,、生長腔體采用進(jìn)口高純石英管，配石英支架,、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環(huán)境;
3,、爐膛采用進(jìn)口高純氧化鋁多晶體纖維，不易掉粉,、壽命長且保溫性能好,。加熱絲采用優(yōu)質(zhì)摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲，溫場均勻,，能耗低,；
4、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì),，配水冷套,，可連續(xù)長時間工作;
5、氣路系統(tǒng)采用兩路質(zhì)量流量計(可拓展多路),配預(yù)混系統(tǒng);
6,、氣體種類： He/Ar,、C2H2、NH3,、N2, H2,、PH3、GeH4、B2H6,；
7,、溫度、氣體,、真空,、冷卻水等通過PLC控制，通過PC實時控制和顯示相關(guān)的實驗參數(shù),，自動保存實驗參數(shù),，也可采用手動控制；
8,、系統(tǒng)采用集成化設(shè)計,，控制系統(tǒng)、混氣罐,、質(zhì)量流量計等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部,，占地面積小。整體安裝四個可移動輪子,，方便整體移動,。
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