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程序升溫還原（temperature programmed reduction, TPR）技術(shù)是在程序升溫脫附（TPD）技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái),。在程序升溫條件下，一定濃度的還原氣體與惰性氣體混合（通常是 H2 /Ar）連續(xù)涌入氧化物中,，使活性組分發(fā)生還原反應(yīng),，從流出氣體中測(cè)量還原氣體濃度而測(cè)定起始還原溫度、最高還原溫度,、最高峰溫 Tm,、還原性氣體消耗量,、還原速率等表征氧化物的還原性質(zhì)。

Micromeritics 網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)將為大家介紹程序升溫還原技術(shù) TPR,。以氧化銅為例,，研究 TPR 實(shí)驗(yàn)過(guò)程中，實(shí)驗(yàn)裝置（氣體流速穩(wěn)定控制,，實(shí)驗(yàn)溫度的準(zhǔn)確測(cè)量以及信號(hào)響應(yīng)時(shí)間等）和實(shí)驗(yàn)分析條件（如升溫速率,、氣體流速、氣體濃度以及可還原物種等）對(duì) TPR 圖譜的影響,。同時(shí),，我們通過(guò)對(duì)比氧化鋁負(fù)載的氧化銅顆粒和純氧化銅粉末實(shí)驗(yàn)，探討載體和顆粒尺寸對(duì) TPR 圖譜的影響,。

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網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)直播時(shí)間

2022年9月22日 周四 14：00-15：00

網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)主題

程序升溫還原氧化銅的影響因素

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關(guān)于Micromeritics

Micromeritics 是提供表征顆粒,、粉體和多孔材料的物理性能、化學(xué)活性和流動(dòng)性的全球高性能設(shè)備生產(chǎn)商,。我們能夠提供一系列行業(yè)前沿的技術(shù),，包括比重密度法、吸附,、動(dòng)態(tài)化學(xué)吸附,、壓汞技術(shù)、粉末流變技術(shù),、催化劑活性檢測(cè)和粒徑測(cè)定,。

公司在美國(guó)、英國(guó)和西班牙均設(shè)立了研發(fā)和生產(chǎn)基地,，并在美洲,、歐洲和亞洲設(shè)有直銷和服務(wù)業(yè)務(wù)。Micromeritics 的產(chǎn)品是全球具有創(chuàng)新力的知名企業(yè),、政府和學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)旗下 10,000 多個(gè)實(shí)驗(yàn)室的優(yōu)選儀器,。我們擁有世界級(jí)的科學(xué)家隊(duì)伍和響應(yīng)迅速的支持團(tuán)隊(duì)，他們能夠?qū)?Micromeritics 技術(shù)應(yīng)用于各種要求嚴(yán)苛的應(yīng)用中,，助力客戶取得成功,。