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儀器簡介：
   電子束入射到樣品上，即可用光學方法接收并分析陰發(fā)光（CL）,，從而提供樣品詳細的物理特性,。它是一種無損的分析方法，結合電鏡可提供與形貌相關的高空間分辨率光譜結果，是納米結構和體材料的獨特分析工具,。
    HCLUE是一款基于反射鏡耦合優(yōu)化的CL系統(tǒng),，結合了Jobin Yvon光譜技術制造的光譜儀模塊，具有高靈敏度性能,，適用于弱信號測量,。可同時配備兩個探測器,，以獲得更大光譜范圍,。

主要特點：
● 反射鏡直接耦合
● 高靈敏度
● 掃描成像、線掃描,、點測量
● 多種光柵選項
● 多種焦長光譜儀選項：320mm-550mm
● 可配雙探測器以獲得大光譜范圍：185nm-2500nm

重點應用領域：
    陰發(fā)光光譜儀（CL）是用來表征材料中的缺陷,，元素和雜質(zhì)追蹤的強大分析工具，廣泛適用于各個應用領域,。

1,、材料科學

● 半導體和光電材料
● 介電/陶瓷   
● 氧化物膜           
● 玻璃
2、礦物,、地質(zhì)
● 碳酸巖       
● 晶體   
● 金剛石    
● 鋯石,、方解石、白云石

3,、生命科學
4,、公安

CL光譜及成像：

■CL光譜：使用CL測量光譜時，可在電鏡下觀察并選擇待測樣品區(qū)域,。	■快速CL成像：將掃描電子束與您的光譜儀同步,，提供快速成像方案。使用HCLUE系統(tǒng)測量的GaN樣品,，測量中使用了超快SWIFTTM成像模式,。
礦物樣品中的白云石和磷酸鈣。測量使用Flex-CLUE系統(tǒng),，配備iHR320光譜儀和開放電式CCD探測器,。感謝Prof A. Jambon, UPMC France提供數(shù)據(jù)	左圖：使用偽彩色顯示350nm-450nm之間發(fā)射光譜區(qū)。figure 1, Hyperspectral CL mapping 中圖：電鏡下的樣品圖像,。figure 2, SE image 右圖：對應的光譜,，其中不同色彩區(qū)域與左圖中顯示的顏色對應。figure 3, CL spectral (RGB)