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為什么購買AccuSizer顆粒計數(shù)系統(tǒng),？

有太多理由讓您的下一個粒度分析儀選擇AccuSizer?系統(tǒng)

什么是ACCUSIZER系統(tǒng)

使用單顆粒光學傳感 （SPOS） 技術的顆粒計數(shù)器和粒度分析儀,。具有多種配置可選，但所有系統(tǒng)都包括SPOS傳感器,，脈沖高度分析儀（或計數(shù)器）和樣品流通池,，用于通過傳感器傳輸樣品。許多樣品流通池自動將樣品稀釋至最佳濃度,，以獲得最準確的結果,。在多達 1024 個粒徑通道中報告粒徑分布信息。

圖 1. 0.5 – 10um之間區(qū)分6個粒徑峰

它不是什么,？

這不是像激光衍射那樣需要RI等物理特性和復雜的反卷積算法的集成技術,。粒子直接定量并一次計數(shù)一個，提供比光散射技術更準確和更高分辨率的結果,。

這種技術的主要好處是什么,？

•    準確性

—直接測量每個顆粒

•    濃度

—出具準確的顆粒/mL 結果

•    分辨率

—無分布增寬

— 將多個峰與基線區(qū)分（圖1）

— 檢測少量的尾部顆粒

圖2.LE400傳感器/計數(shù)器圖

在許多行業(yè)中，尾部顆粒檢測至關重要,。如果主峰之外的幾個大顆粒對產(chǎn)品性能有害,，為什么不使用對大顆粒計數(shù)（LPC）具有最高靈敏度的技術呢？AccuSizer SPOS系統(tǒng)在檢測少量尾部顆粒分布方面優(yōu)于激光衍射,。AccuSizer SPOS系統(tǒng)集成了許多獨特的技術,，包括：

•    自動稀釋、一步稀釋和多步稀釋,。

•    傳感器技術

—消光+散射LE傳感器

—聚焦光束 FX Nano 傳感器,，檢測下限低至 150 nm

•    根據(jù)您的流程定制的在線系統(tǒng)（AccuSizer Mini FX系統(tǒng)，圖3）

目前誰正在使用ACCUSIZER SPOS系統(tǒng),？

AccuSizer SPOS系統(tǒng)是檢測CMP研磨液尾部顆粒的行業(yè)標準,。制藥行業(yè)使用 AccuSizer 系統(tǒng)檢測脂肪乳中的大顆粒 （PFAT5）,、USP<788>測試和蛋白質聚集研究。噴墨墨水等等,，不勝枚舉,，在全球范圍內(nèi)的各行各業(yè)有數(shù)千臺安裝。

圖3. AccuSizer Mini FX系統(tǒng),。

ACCUSIZER SPOS 系統(tǒng)精確度,？

創(chuàng)建粒度分布的最準確方法是單獨測量每個顆粒。AccuSizer系統(tǒng)對通過傳感器檢測區(qū)域的每個顆粒進行粒徑檢測和計數(shù),，并一次構建一個顆粒的分布,。這將創(chuàng)建準確、高分辨率的結果,。圖4顯示了通過45μm篩網(wǎng)的樣品,。藍色的線是AccuSizer SPOS系統(tǒng)測試結果，其清楚地顯示了尾端斷崖式的分布,，而紅色的線是激光衍射結果,，其顯示了廣的粒徑分布曲線，包括不存在的>100μm的顆粒,。

圖4.AccuSizer系統(tǒng)一次構建一個顆粒的分布,，提供準確的結果。

一項針對微電子行業(yè)發(fā)表的研究1顯示了AccuSizer SPOS系統(tǒng)與其他技術相比,，其靈敏度和分辨率的表現(xiàn),。在二氧化硅、氧化物CMP研磨液體中加入在1 μm SiO2顆粒,，測試不同技術在識別出1 μm SiO2顆粒能力的表現(xiàn),。據(jù)報道，AccuSizer系統(tǒng)的檢測限為0.07 mg/mL,，而激光衍射技術的結果（C）為100 mg/mL,，相差1428X（圖5）。

圖5.SiO2顆粒檢測研究,。

顆粒濃度衍射分布

圖 6a.AccuSizer 系統(tǒng)對加標了CMP的測試結果,。

粒度分布

圖 6b.激光衍射對加標CMP的測試結果。

在2013年進行的一項研究中,，我們用1.36μm PSL標準品加標至二氧化硅CMP研磨液,，以確定檢測到尾部大顆粒所需的濃度。當將 3.4 μL PSL 注入 250 mL 原液 CMP 研磨液中時,，AccuSizer FX（POU） 系統(tǒng)可以檢測第二個群體峰（圖 6a）,。2

圖6b顯示了采用激光衍射儀的方式首次檢測加標峰的數(shù)據(jù)，360 μL加標到4.3 mL原液CMP研磨液中,。這表明SPOS和激光衍射法的檢測限差異為 615X,。另外請注意,，當激光衍射結果最終檢測到加標峰的存在時，它拓寬1.36μm PSL標準分布,。

引用

1 Nichols, K., et. al., Perturbation Detection Analysis: A Method for Comparing Instruments That Can Measure the Presence of Large Particles in CMP Slurry, report published by BOC Edwards, Chaska, MN

2 Detecting Tails in CMP Slurries, Entegris, August 2019 https://www. entegris.com/content/dam/product-assets/accusizerspossystems/appnote-detecting-tails-cmp-slurries-10527.pdf