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上海奧法美嘉生物科技有限公司
美國(guó)PSS粒度儀,、意大利PSI均質(zhì)機(jī)
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光刻膠用色漿均一性解決方案

光刻膠用色漿均一性解決方案
上海奧法美嘉生物科技有限公司  2023/03/07  |  閱讀:420
產(chǎn)品配置單:
方案詳情:

均一性與穩(wěn)定性控制


光刻膠是利用光化學(xué)反應(yīng)經(jīng)曝光、顯影,、刻蝕、去膠等工藝將需要的圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工襯底上的材料,。經(jīng)曝光后,,光刻膠在顯影液中溶解度會(huì)發(fā)生變化,,從而可以形成圖案,。


光刻膠是國(guó)際上技術(shù)門(mén)檻最高的微電子化學(xué)品之一,占芯片制造時(shí)間的40%~50%,,光刻膠是光刻工藝得以實(shí)現(xiàn)選擇性刻蝕的關(guān)鍵材料。光刻膠成分復(fù)雜,,主要成分有高分子樹(shù)脂,、色漿、單體,、感光引發(fā)劑、溶劑以及添加劑,。國(guó)內(nèi)缺乏生產(chǎn)光刻膠所需的原材料,,作為生產(chǎn)光刻膠最重要的色漿,,至今依賴日本,其核心技術(shù)至今被TOK,、JSR,、住友化學(xué),、信越化學(xué)等日本企業(yè)所壟斷。開(kāi)發(fā)光刻膠用的色漿,,具有重要得意義,。[1]


光刻膠涉及技術(shù)復(fù)雜,,需從低聚物結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和篩選、合成工藝的確定和優(yōu)化,、活性單體的篩選和控制,、色漿細(xì)度控制和穩(wěn)定,、產(chǎn)品配方設(shè)計(jì)和優(yōu)化、產(chǎn)品生產(chǎn)工藝優(yōu)化和穩(wěn)定,、最終使用條件匹配和寬容度調(diào)整等方面進(jìn)行調(diào)整,。[1]




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奧法美嘉平臺(tái)提供整套的光刻膠用色漿均一性與穩(wěn)定性解決方案,,可用于快速評(píng)估、優(yōu)化光刻膠色漿的配方和工藝:砂(珠)磨機(jī)對(duì)色漿進(jìn)行研磨分散處理,,高壓微射流均質(zhì)機(jī)對(duì)色漿漿料進(jìn)行分散均質(zhì)處理、Nicomp粒度分析儀分析平均粒徑,、AccuSizer顆粒計(jì)數(shù)器分析大粒子濃度,Lum穩(wěn)定性分析儀快速分析色漿穩(wěn)定性,,Entegris-ANOW濾芯過(guò)濾雜質(zhì)及大顆粒,。



光刻膠色漿制備流程概述


光刻膠色漿的制備工藝,,主要是涉及色漿配方(顏料、分散劑,、溶劑等)混合,,然后經(jīng)過(guò)砂(珠)磨機(jī)研磨分散,、高壓微射流均質(zhì)分散得到一定粒度分散的漿料,而后再通過(guò)濾芯對(duì)漿料進(jìn)行除雜(去除大顆粒,,金屬離子等污染物),。


在色漿制備中的難點(diǎn)是色漿的團(tuán)聚現(xiàn)象,,這既和配方的穩(wěn)定性有關(guān),,也和制備工藝機(jī)械能是否適中有關(guān):過(guò)小的機(jī)械能不足以解開(kāi)團(tuán)聚,;而過(guò)大的機(jī)械能則容易對(duì)粒子造成二次損壞,局部溫度過(guò)高,,降低穩(wěn)定性;此外,,制備工藝對(duì)大顆粒的去除效果會(huì)直接影響成品效果,。常規(guī)制備的色漿平均粒徑在20nm~100nm左右,。色漿的穩(wěn)定性不僅是對(duì)制備工藝優(yōu)化至關(guān)重要,更是直接影響成品色漿的存儲(chǔ)和使用。


通過(guò)PSS的Nicomp粒度分析儀測(cè)試平均粒徑,、AccuSizer顆粒計(jì)數(shù)器測(cè)試過(guò)大顆粒濃度,、Lum穩(wěn)定性分析儀快速篩選光刻膠用色漿配方穩(wěn)定性,。



圖1 光刻膠用色漿均一性解決方案



光刻膠用色漿粒度控制


目前部分低端光刻膠已實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化,但高斷光刻膠仍依賴進(jìn)口,。開(kāi)發(fā)光刻膠遇到的一大難題是色漿這一原材料,至今依賴日本,,其核心技術(shù)至今被日本企業(yè)所壟斷,。光刻膠用色漿的粒徑大小、粒徑分布,、均一性等因素對(duì)光刻膠性能以及后續(xù)工藝起著重要作用。在對(duì)光刻膠進(jìn)行考察時(shí),,主要評(píng)估其平均粒徑大小,,大顆粒濃度、穩(wěn)定性等指標(biāo),。


HM&M珠磨機(jī)


常見(jiàn)分散方法的球磨法或砂磨機(jī),在分散時(shí)物料,、磨珠與機(jī)體之間的撞擊會(huì)對(duì)色漿中的顏料造成磨損,磨損的材料進(jìn)入漿液中會(huì)變成難以除去的雜質(zhì),,這對(duì)漿料的純度產(chǎn)生不利的影響,,此外,機(jī)械力過(guò)大時(shí)局部升溫過(guò)快,,也會(huì)導(dǎo)致物料的不穩(wěn)定,影響后續(xù)的涂覆工藝,。日本HM&M珠磨機(jī)的ADV機(jī)型,,特殊設(shè)計(jì)的轉(zhuǎn)子,,可對(duì)高粘度的漿料(高達(dá)2000mPas)的進(jìn)行納米級(jí)和微米級(jí)分散,同時(shí),,也能以更小的粒子損傷對(duì)漿料進(jìn)行分散,,獲得粒子原有特性無(wú)損的產(chǎn)品,。磨珠磨損少,,能減少污染量。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上,,易于更換磨珠,,拆卸和清洗也十分方便,。


? 實(shí)驗(yàn)室研究工作用的珠磨機(jī),50cc,、100cc和150cc三種容量可供選擇,。(Apex Labo實(shí)驗(yàn)型)

?  無(wú)篩網(wǎng)設(shè)計(jì),,沒(méi)有物料堵塞風(fēng)險(xiǎn),運(yùn)行平穩(wěn),,無(wú)累積壓力,無(wú)壓力損失,。

?  可處理高粘度漿料

?  可使用最小15um,,最大0.5mm研磨珠,,一臺(tái)設(shè)備滿足大多數(shù)物料研磨和分散需求。

image.png              

                                              圖2 HM&M 珠磨機(jī)        


高壓微射流均質(zhì)機(jī)


PSI-20高壓微射流均質(zhì)機(jī)(小試兼中試型)采用固定結(jié)構(gòu)的均質(zhì)腔,,通過(guò)電液傳動(dòng)的增壓器使物料在高壓作用下以極大的速度流經(jīng)交互容腔的微管通道,物料流在此過(guò)程中受到高剪切力,、高碰撞力,、空穴效應(yīng)等物理作用,,使得平均粒徑降低、體系均一穩(wěn)定,,由此獲得理想的均質(zhì),、分散或乳化結(jié)果。


? 最高2069 bar的均質(zhì)壓力,,最高處理量20L/h (PSI-20)

? 采用特殊設(shè)計(jì)Y型腔,去除尾端大顆粒效果佳,物料的混合更均一,,處理效率高。  

? 屏顯界面,,數(shù)據(jù)可溯源:支持?jǐn)?shù)據(jù)導(dǎo)出設(shè)定壓力及實(shí)時(shí)壓力,、監(jiān)測(cè)點(diǎn)溫度,、實(shí)時(shí)流量、時(shí)間等,。

? 配置K型熱電偶:可用于實(shí)施監(jiān)測(cè)料液溫度,。

? 低噪音:運(yùn)行音量低于70分貝,,工作環(huán)境友好型。

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   圖3 PSI高壓微射流均質(zhì)機(jī)


平均粒徑檢測(cè)


色漿的粒徑對(duì)其后道的涂覆,,色散效果等影響較大,,會(huì)影響顯色效果,,粒徑的控制是光刻膠用色漿的重要指標(biāo)。色漿在未經(jīng)分散時(shí)容易產(chǎn)生大團(tuán)聚物,,色漿中顏料顆粒大小增加形成大顆粒,,容易影響涂覆效果。適當(dāng)?shù)姆稚⒛茉黾由珴{的分散效果,,進(jìn)而影響涂覆顯色性能。


Nicomp納米激光粒度儀系列


Nicomp系列納米激光粒度儀采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測(cè)分析樣品的粒度分布,,基于多普勒電泳光散射原理檢測(cè)ZETA電位,。


? 粒徑檢測(cè)范圍0.3nm-10μm,,ZETA電位檢測(cè)范圍為+/-500mV

? 搭載Nicomp多峰算法,可以實(shí)時(shí)切換成多峰分布觀察各部分的粒徑,。

? 高分辨率的納米檢測(cè),Nicomp納米激光粒度儀對(duì)于小于10nm的粒子仍然現(xiàn)實(shí)較好的分辨率和準(zhǔn)確度,。

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                           圖4  Nicomp 3000系列(實(shí)驗(yàn)室)                


尾端大粒子濃度檢測(cè)


光刻膠用色漿,,常用于彩膠制備,用于TFT-LCD,,色漿中大顆粒的存在,,會(huì)在涂覆后的屏上出現(xiàn)缺陷,影響成品效果,。而大顆粒的產(chǎn)生主要在于:1)制備工藝中本身沒(méi)有很好去除大顆粒2)配方不穩(wěn)定,小顆粒聚集成大顆粒,。因此,,對(duì)于大顆粒(尾端大粒子)的監(jiān)控,對(duì)于篩選并優(yōu)化色漿漿料配方,,成品檢測(cè)具有重要意義。


AccuSizer顆粒計(jì)數(shù)器系列


AccuSizer系列在檢測(cè)液體中顆粒數(shù)量的同時(shí)精確檢測(cè)顆粒的粒度及粒度分布,,通過(guò)搭配不同傳感器,、進(jìn)樣器,適配不同的樣本的測(cè)試需求,,能快速而準(zhǔn)確地測(cè)量顆粒粒徑以及顆粒數(shù)量/濃度,。


? 檢測(cè)范圍為0.5μm-400μm(可將下限拓展至0.15μm),。

? 0.01μm的超高分辨率,,AccuSizer系列具有1024個(gè)數(shù)據(jù)通道,能反映復(fù)雜樣品的細(xì)微差異,,為研發(fā)及品控保駕護(hù)航,。

? 靈敏度高達(dá)10PPT級(jí)別,即使只有微量的顆粒通過(guò)傳感器,,也可以精準(zhǔn)檢測(cè)出來(lái),。


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圖5 AccuSizer A7000系列                    


穩(wěn)定性分析檢測(cè)


分散的光刻膠用色漿中的顏料粒子會(huì)隨著時(shí)間的變化發(fā)生再聚集,,在實(shí)際使用過(guò)程中,往往在采購(gòu)?fù)晟珴{后的一段時(shí)間內(nèi)使用,,這就需要評(píng)估色漿存儲(chǔ)的穩(wěn)定性,。此外,,在色漿的配方選擇及工藝優(yōu)化階段,,穩(wěn)定性的評(píng)估也非常重要,通過(guò)快速評(píng)估穩(wěn)定性,,可在研發(fā)階段對(duì)不同色漿配方進(jìn)行篩選,,對(duì)工藝進(jìn)行優(yōu)化,大大縮短研發(fā)時(shí)間,。


LUM穩(wěn)定性分析儀


Lum穩(wěn)定性分析儀可以直接測(cè)量整個(gè)樣品的分散體的穩(wěn)定性,檢測(cè)和區(qū)分各種不穩(wěn)定現(xiàn)象,,如上浮,、絮凝、聚集,、聚結(jié)、沉降等,,通過(guò)測(cè)量結(jié)果可用來(lái)開(kāi)發(fā)新的配方和優(yōu)化現(xiàn)有的配方及工藝,。


? 快速,、直接測(cè)試穩(wěn)定性,無(wú)需稀釋,,溫度范圍寬廣

? 可同時(shí)測(cè)8個(gè)樣品,,測(cè)量及辨別不同的不穩(wěn)定現(xiàn)象及不穩(wěn)定性指數(shù)

? 加速離心,最高等效2300倍重力加速度

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過(guò)濾


在色漿制備過(guò)程中,,過(guò)濾可有效去除漿料中的尾端大顆粒和其他雜質(zhì),過(guò)濾后的漿料相較于未過(guò)濾之前穩(wěn)定性更好,,可為后續(xù)催化劑漿料涂覆工藝提供更好的原料,。過(guò)濾時(shí)使用不同的膜將會(huì)影響物理攔截,吸附攔截等效果,,需根據(jù)不同的工藝選擇能相容該產(chǎn)品的濾芯,。


Entegris-ANOW 濾芯


Entegris-Anow是一家高分子微孔膜過(guò)濾企業(yè),,專業(yè)從事MCE、Nylon,、PES,、PVDF、PTFE等(膜孔徑為0.03μm~10μm)微孔膜的研發(fā)及生產(chǎn),,具有二十多年服務(wù)與醫(yī)藥客戶經(jīng)驗(yàn),,并為全球生物制藥、醫(yī)療器械,、食品飲料,、實(shí)驗(yàn)室分析、微電子及工業(yè)等領(lǐng)域的客戶提供過(guò)濾,、分離和凈化解決方案,。






光刻膠用色漿均一性的一體化解決方案——DOWNLOAD↓



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