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募資19.48億元,!該半導(dǎo)體材料大廠加碼靜電吸盤及濺射靶材


來源:中國(guó)粉體網(wǎng)   山川

[導(dǎo)讀]  江豐電子發(fā)布重要公告!

中國(guó)粉體網(wǎng)訊  近日,,江豐電子發(fā)布公告稱,,公司擬通過定向增發(fā)募集資金不超過19.48億元,用于年產(chǎn)5,100個(gè)集成電路設(shè)備用靜電吸盤產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目,、年產(chǎn)12,300個(gè)超大規(guī)模集成電路用超高純金屬濺射靶材產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目等項(xiàng)目,。



進(jìn)一步鞏固在靶材市場(chǎng)的江湖地位


濺射靶材應(yīng)用于濺射薄膜沉積工藝,濺射沉積是一種物理氣相沉積(PVD)工藝,,即在一定的真空環(huán)境下,,利用荷能粒子轟擊材料表面,使材料表面濺射出粒子并沉積在基底表面形成薄膜,。濺射薄膜沉積工藝可重復(fù)性好,、膜厚可控,所制備的薄膜具有純度高,、致密性好等優(yōu)點(diǎn),,可用于集成電路產(chǎn)業(yè)的高性能薄膜制備,對(duì)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要推動(dòng)作用,。



在濺射沉積工藝中,,被轟擊的目標(biāo)材料稱為濺射靶材,,系集成電路生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)中的重要先進(jìn)材料。根據(jù)弗若斯特沙利文報(bào)告,,預(yù)計(jì)至2027年,,全球半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)251.10億元,市場(chǎng)空間廣闊,。


美國(guó),、日本的半導(dǎo)體靶材生產(chǎn)廠商長(zhǎng)期居于全球市場(chǎng)的主導(dǎo)地位。江豐電子憑借持續(xù)的技術(shù)深耕與創(chuàng)新突破,,打破了國(guó)內(nèi)超高純金屬濺射靶材基本依靠進(jìn)口的局面,,填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)同類產(chǎn)品的技術(shù)空白,并已逐漸成長(zhǎng)為國(guó)內(nèi)超高純金屬濺射靶材產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)先者,,具備與同行跨國(guó)公司競(jìng)爭(zhēng)的實(shí)力,。


本次江豐電子募資項(xiàng)目“年產(chǎn)12,300個(gè)超大規(guī)模集成電路用超高純金屬濺射靶材產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”將建設(shè)公司在韓國(guó)的生產(chǎn)基地,由公司全資孫公司捷豐先進(jìn)材料科技有限公司(KFAMCO.,,LTD.)實(shí)施,,該項(xiàng)目建設(shè)將加速公司全球化戰(zhàn)略布局,實(shí)現(xiàn)對(duì)SK海力士,、三星等重要客戶覆蓋,,提升公司屬地化服務(wù)能力,為公司的國(guó)際化發(fā)展戰(zhàn)略奠定基礎(chǔ),。


緩解我國(guó)高端靜電吸盤供求失衡的局面


精密零部件作為半導(dǎo)體設(shè)備的關(guān)鍵構(gòu)成要素及芯片生產(chǎn)制造過程中的重要消耗品,,是半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵支撐。




其中靜電吸盤是一種適用于真空環(huán)境或等離子體環(huán)境的超潔凈晶圓片承載體,,其性能及品質(zhì)會(huì)直接影響芯片制造的良率和效率,。靜電吸盤使用壽命通常不超過2年,屬于消耗類零部件,,市場(chǎng)需求大,。當(dāng)前,全球靜電吸盤市場(chǎng)基本由美國(guó),、日本等少數(shù)企業(yè)占據(jù),。


在半導(dǎo)體精密零部件領(lǐng)域,江豐電子憑借研發(fā)及制造方面強(qiáng)勁的技術(shù)優(yōu)勢(shì),,現(xiàn)已具備4萬多種零部件的量產(chǎn)能力,,相關(guān)產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD),、蝕刻機(jī)、離子注入機(jī)等半導(dǎo)體設(shè)備中,,公司亦已成為國(guó)內(nèi)多家知名半導(dǎo)體設(shè)備公司和國(guó)際一流芯片制造企業(yè)的核心零部件供應(yīng)商,。


2025年1月,江豐電子與KSTEINC.(以下簡(jiǎn)稱“KSTE”)簽署了《關(guān)于靜電吸盤項(xiàng)目之合作框架協(xié)議》,公司向KSTE引進(jìn)靜電吸盤生產(chǎn)技術(shù)及采購(gòu)靜電吸盤生產(chǎn)線,。


此次募資項(xiàng)目“年產(chǎn)5,100個(gè)集成電路設(shè)備用靜電吸盤產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”目總投資額為109,790.00萬元,,擬使用募集資金99,790.00萬元,旨在充分發(fā)揮公司半導(dǎo)體超高純金屬濺射靶材及精密零部件領(lǐng)域所積累的產(chǎn)研技術(shù)及客戶優(yōu)勢(shì),,實(shí)現(xiàn)靜電吸盤產(chǎn)品的量產(chǎn)和銷售,,以緩解我國(guó)高端靜電吸盤供求失衡的局面,助力我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控性,。


關(guān)于江豐電子


公司主要專注于超高純金屬濺射靶材,、半導(dǎo)體精密零部件的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,。經(jīng)過多年發(fā)展,,公司已成功構(gòu)建多個(gè)高水平的創(chuàng)新平臺(tái),包括“寧波市企業(yè)工程技術(shù)中心”,、“國(guó)家示范院士專家工作站”,、“省級(jí)高新技術(shù)企業(yè)研發(fā)中心”、“國(guó)家博士后科研工作站”以及“浙江省重點(diǎn)企業(yè)研究院”,。憑借卓越的研發(fā)能力和創(chuàng)新成果,,公司的研發(fā)中心榮獲“國(guó)家級(jí)企業(yè)技術(shù)中心”的稱號(hào)。



2024年,,公司實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入36.05億元,,同比增長(zhǎng)38.57%;實(shí)現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤(rùn)4.01億元,,同比增長(zhǎng)56.79%,;實(shí)現(xiàn)歸屬于上市公司股東的扣除非經(jīng)常性損益后的凈利潤(rùn)3.04億元,同比增長(zhǎng)94.92%,。


參考來源:江豐電子


(中國(guó)粉體網(wǎng)/山川)

注:圖片非商業(yè)用途,,存在侵權(quán)告知?jiǎng)h除


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作者:山川

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