中國粉體網(wǎng)訊  近日，美國政府發(fā)布關(guān)于“對等關(guān)稅”的行政令,，引發(fā)市場高度關(guān)注。

一,、加征關(guān)稅基本情況

自2018年起,，美國政府持續(xù)升級對華貿(mào)易限制措施，通過關(guān)稅調(diào)整和出口管制多維度施壓,。2018年7月,，美國對500億美元中國輸美商品加征25%關(guān)稅，次年5月進(jìn)一步將2,000億美元中國商品的關(guān)稅稅率從10%提升至25%,。在2024年的新一輪經(jīng)貿(mào)博弈中,，美國政府將電動汽車、半導(dǎo)體,、醫(yī)療設(shè)備等戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)作為重點(diǎn)對象,，大幅加征相關(guān)產(chǎn)品關(guān)稅。同年10月,，通過商務(wù)部將數(shù)十家中國實(shí)體列入“實(shí)體清單”和“未經(jīng)驗(yàn)證清單”,，實(shí)施嚴(yán)格技術(shù)出口管制。

2025年2月1日和3月3日,，美國政府分兩次對中國輸美商品各加征10%關(guān)稅,，累計(jì)提升關(guān)稅稅率達(dá)20%；4月3日出臺的“對等關(guān)稅”政策進(jìn)一步重構(gòu)全球貿(mào)易格局,，對中國大陸商品征收34%稅率,，同時(shí)對越南、泰國,、印度尼西亞,、馬來西亞等中國產(chǎn)業(yè)鏈外遷主要承接國實(shí)施梯度稅率。2025年4月10日，美國政府宣布對中國輸美商品征收“對等關(guān)稅”的稅率進(jìn)一步提高至125%,。

二,、CMP發(fā)展概況

CMP是半導(dǎo)體制造中用于晶圓表面平坦化的核心技術(shù)，涉及設(shè)備（如拋光機(jī)）和材料（如拋光液,、拋光墊）兩大領(lǐng)域,。目前，全球CMP市場主要由美日企業(yè)主導(dǎo),，而中國作為全球最大的半導(dǎo)體消費(fèi)市場,，CMP設(shè)備和材料的國產(chǎn)化進(jìn)程直接關(guān)系到芯片制造的自主可控能力。

根據(jù)SEMI統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù),，全球半導(dǎo)體CMP拋光材料市場規(guī)模由2015年約15.90億美元增長至2022年約29.90億美元,，復(fù)合增長率為9.44%。

2015-2022年全球半導(dǎo)體CMP拋光材料行業(yè)規(guī)模及趨勢（億美元）

我國半導(dǎo)體CMP拋光材料市場規(guī)模由2015年約21.30億元增長至2022年約49.90億元,，復(fù)合增長率為12.93%,，相較全球?qū)崿F(xiàn)了更加快速的發(fā)展。

2015-2022年中國半導(dǎo)體CMP拋光材料行業(yè)規(guī)模及趨勢（億元,，人民幣）

三,、對CMP行業(yè)的影響

1.關(guān)鍵原材料與設(shè)備依賴進(jìn)口，國外企業(yè)壟斷,，致使國內(nèi)企業(yè)成本上升

關(guān)鍵材料及設(shè)備被壟斷：

（1）CMP拋光液

拋光液上游材料中,，主要原材料研磨顆粒的制造技術(shù)掌握在國外企業(yè)手中。目前卡博特（Cabot）,、慧瞻材料（Versum）,、英特格（Entegris）、安集科技等拋光液企業(yè)主要向第三方采購核心磨粒材料,。二氧化硅磨粒使用最廣泛（70%）,，但被日產(chǎn)化學(xué)、扶�,；瘜W(xué),、阿克蘇諾貝爾公司等海外巨頭壟斷。比利時(shí)索爾維作為全球最大的氧化鈰研磨顆粒制造商,，壟斷了氧化鈰研磨顆粒,。

根據(jù) QY Research 數(shù)據(jù)，全球CMP拋光液市場主要被美國CMC Materials（原 Cabot）,、日本力森諾科（Resonac）,、美國VSM（Versum Materials）和日本福吉米（Fujimi）等美日企業(yè)壟斷，競爭格局較為集中,。

（2）CMP拋光墊

拋光墊全球市場集中度高,，市場份額主要被杜邦占據(jù),，其占全球79%的市場份額。

（3）CMP設(shè)備

根據(jù)國際半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會SEMI數(shù)據(jù),，2022年中國大陸半導(dǎo)體設(shè)備的銷售額達(dá)283億美元,，占全球半導(dǎo)體設(shè)備市場26.30%的份額，2023年銷售額達(dá)366億美元,。

全球CMP設(shè)備市場幾乎被美國應(yīng)用材料（AppliedMaterials,Inc）和日本荏原（EbaraCorporation）兩家公司壟斷,，它們占據(jù)了90%以上的市場份額，尤其是在14nm以下先進(jìn)制程領(lǐng)域,，幾乎完全依賴這兩家企業(yè)。

國內(nèi)企業(yè)在逐步發(fā)展：

就CMP設(shè)備來看,，目前我國僅有華海清科,、晶亦精微等少數(shù)幾家企業(yè)可量產(chǎn)CMP設(shè)備，但市場占有率仍然不高,，處于加速追趕階段,。安集科技、上海新安納,、江豐電子,、鼎龍股份等CMP拋光材料企業(yè)也在奮起直追。

2.技術(shù)壁壘,、客戶認(rèn)證壁壘,、出口管制將對國內(nèi)企業(yè)產(chǎn)生更大限制

CMP拋光材料的技術(shù)更新動力源自下游晶圓的技術(shù)更新。晶圓制程不斷提高,，從1971年的10微米到現(xiàn)在的10納米,、7納米甚至5納米。為了追趕摩爾定律,，制程工藝大約2年就能更新一次,，往往是這邊的技術(shù)還沒趕上，那邊的新技術(shù)又出來了,。因此為了滿足更細(xì)致的工藝,，對CMP材料也有著更高的要求。

試錯(cuò)成本也成為了CMP材料的技術(shù)壁壘,。拋光材料要不斷找到合適配方,、穩(wěn)定制作工藝及設(shè)計(jì)圖案，從而獲得較好的,、穩(wěn)定的拋光速率和拋光效果,，所以企業(yè)研究CMP耗材時(shí)間成本較高，需要較長時(shí)間來試錯(cuò)摸索工藝指標(biāo),、產(chǎn)品配方等對物理參數(shù)及性能的影響結(jié)果,，形成較深的Know-How壁壘,。

此外，在晶圓加工的多重工藝環(huán)節(jié)中,，CMP材料的產(chǎn)品性能,、可靠性以及工藝穩(wěn)定性直接對晶圓產(chǎn)品的性能及良率產(chǎn)生重要影響，下游客戶對CMP材料供應(yīng)商和產(chǎn)品均有極高的要求,。在選擇CMP拋光材料時(shí),，客戶往往會通過多重測試環(huán)節(jié)后，才會做出大批量采購決策,，一旦客戶予以產(chǎn)品認(rèn)證,，并形成穩(wěn)定的供應(yīng)鏈體系之后，客戶與供應(yīng)商就建立了非常緊密的合作關(guān)系,。

隨著中美關(guān)系緊張,，美國加強(qiáng)了對半導(dǎo)體關(guān)鍵設(shè)備和材料出口的管制，如對華為,、中芯國際的限制,。這直接影響了中國CMP行業(yè)獲取先進(jìn)工藝設(shè)備的能力，延緩了技術(shù)升級,。

3.推動CMP國產(chǎn)替代進(jìn)程

鑒于CMP拋光材料對產(chǎn)品性能,、可靠性以及穩(wěn)定性的要求嚴(yán)格，替換成本高,，從而導(dǎo)致下游客戶更換供應(yīng)商意愿不強(qiáng),，一定程度上保障了上游供應(yīng)商的產(chǎn)品生命周期較長，一旦國內(nèi)企業(yè)實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破,，進(jìn)入供應(yīng)鏈后,，則難以被替代。同時(shí),，因海外半導(dǎo)體材料供應(yīng)不確定性加劇,，擾動國內(nèi)晶圓大廠材料的供應(yīng)鏈，“對等關(guān)稅”政策下,，中國半導(dǎo)體企業(yè)采購美國產(chǎn)品的成本上升,，推動國產(chǎn)替代進(jìn)程提速，倒逼本土晶圓廠商加速國產(chǎn)CMP材料的產(chǎn)品認(rèn)證,，提升供需方CMP產(chǎn)品國產(chǎn)替代的共研意愿,，一旦實(shí)現(xiàn)突破，便自動形成上述競爭壁壘,，助力CMP拋光材料國產(chǎn)化進(jìn)程加速,。

參考來源：

[1] 巨潮資訊網(wǎng)、中國粉體網(wǎng),、科技日報(bào),、財(cái)政部網(wǎng)站,、證券日報(bào)網(wǎng)、CMP拋光資訊,、金木資本,、EAR

[2] HORIBA：Semiconductor Processing: Chemical Mechanical Planarization

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林）

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