隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展,，半導(dǎo)體材料的革新速度也進(jìn)一步加快。當(dāng)前，碳化硅作為第三代半導(dǎo)體材料的典型代表，在新能源汽車,、光伏、儲能等新興領(lǐng)域正快速滲透,，已成為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的前沿和制高點(diǎn),。同時(shí)，我國“十四五”規(guī)劃已將碳化硅半導(dǎo)體納入重點(diǎn)支持領(lǐng)域,，碳化硅半導(dǎo)體將在我國5G基站建設(shè),、特高壓、城際高速鐵路和城市軌道交通,、新能源汽車充電樁、大數(shù)據(jù)中心等新基建領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。
近年來,，我國在SiC材料領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展，但與國際先進(jìn)水平相比,，在晶體生長技術(shù),、晶圓加工技術(shù)等方面仍存在一定差距,。SiC晶體生長過程中面臨著晶體缺陷控制,、生長速率提升、晶體質(zhì)量穩(wěn)定性等難題,；晶圓加工方面,，則存在加工精度不足、良品率低,、加工成本較高等挑戰(zhàn),。在當(dāng)前倡導(dǎo)節(jié)能減排的大趨勢下，快速穩(wěn)定地突破碳化硅單晶尺寸和質(zhì)量等關(guān)鍵問題,，才能夠更好地占據(jù)未來碳化硅市場。
在此背景下,，中國粉體網(wǎng)將于2025年8月21日在江蘇·蘇州舉辦第三代半導(dǎo)體SiC晶體生長及晶圓加工技術(shù)研討會,，大會將匯聚國內(nèi)行業(yè)專家、學(xué)者,、技術(shù)人員,、企業(yè)界代表圍繞晶體生長工藝、關(guān)鍵原材料,、生長設(shè)備及應(yīng)用,、碳化硅晶片切、磨,、拋技術(shù)等方面展開演講交流,。蘇州錦業(yè)源自動化設(shè)備有限公司作為參展單位邀請您共同出席。
蘇州錦業(yè)源自動化設(shè)備有限公司（隸屬于錦源科技控股有限公司）成立于2011年8月,，是一家專業(yè)從事半導(dǎo)體封裝,、電子陶瓷（LTCC，HTCC）生產(chǎn)及設(shè)備代理的專業(yè)服務(wù)商,，尤為擅長提供微組裝整線及電子陶瓷整線工藝,、生產(chǎn)解決方案和技術(shù)支援。
目前,，公司主要合作伙伴來自歐洲及日本,，合力為業(yè)界廣大客戶提供一流的產(chǎn)品及方案，同時(shí)提供專業(yè)技術(shù)顧問，咨詢服務(wù),。
公司發(fā)展至今,，培養(yǎng)了具備核心競爭力的人才團(tuán)隊(duì)，擁有具備專業(yè)素養(yǎng)的若干售前,、售后及銷售人員,，可積極快速響應(yīng)客戶要求并提供優(yōu)質(zhì)、高效,、稱心的服務(wù),，為客戶創(chuàng)造價(jià)值，贏得效益,。
基于客戶多年來的信任及認(rèn)可,，我們將持續(xù)秉承技術(shù)引領(lǐng)方向、經(jīng)驗(yàn)規(guī)避風(fēng)險(xiǎn),、服務(wù)決定未來,、伙伴一起成長!”的宗旨，推動行業(yè)發(fā)展,，精心服務(wù)用戶,，求是創(chuàng)新，更創(chuàng)輝煌!
產(chǎn)品介紹
1,、全自動單晶圓清洗機(jī) AST-T02-CL
設(shè)備功能及特點(diǎn)：
晶圓全自動清洗機(jī),，8”/12” 共享機(jī)臺，切換只需更換FOUP內(nèi) Adaptor,。
具備多功特性,，針對不同應(yīng)用，集成不同功能,。具備高速離心旋轉(zhuǎn),、HPC、二流體,、SC1 化學(xué)清洗及能加裝兆聲波等功能,。
適用于 Particle 清洗、Flux 清洗及光阻殘留清洗等制程 ,。
流場模擬腔體設(shè)計(jì),，獨(dú)特的密封設(shè)計(jì)，為制程提供最潔凈的清洗環(huán)境,。
友善的軟件接口,，提供量產(chǎn)和工程安全便利的芯片制程。
2,、單晶圓/陶瓷片超聲波光阻噴涂機(jī)
設(shè)備功能及特點(diǎn)：
本機(jī)是全自動的超聲波噴涂機(jī)臺,，可實(shí)現(xiàn)取片,、對位,、噴涂,、去邊、烘烤,、放片等全自動作業(yè),。超聲波噴涂是利用壓電材料將電能轉(zhuǎn)換為機(jī)械能，以震蕩的方式來霧化流體,，可以得到均勻且微細(xì)的涂布液滴,，以溫和且微細(xì)的液滴從基材正上方開始沉積涂布，階梯覆蓋率的表現(xiàn)更為優(yōu)越,，也能有效提高材料利用率,。利用轉(zhuǎn)速跟噴頭移動速度做配合，進(jìn)行連續(xù)性的旋轉(zhuǎn)噴涂,，可有效提高產(chǎn)能,，更可消除一般設(shè)備來回噴涂時(shí)，因路徑不同所造成的膜厚落差,。并且本機(jī)采用大口徑的供料流道設(shè)計(jì),，能有效避免管路堵塞的發(fā)生，減少設(shè)備停機(jī)維修時(shí)間,，提高設(shè)備使用的稼動率,。腔體結(jié)構(gòu)導(dǎo)入流場數(shù)值模擬規(guī)劃，用以進(jìn)行優(yōu)化流道幾何設(shè)計(jì),，避免粒子回流污染涂布腔體,。
3、高精度光刻機(jī)
設(shè)備特點(diǎn):
UV-LED光源
安全又環(huán)保 無需預(yù)熱冷卻
選用 UV-LED 光源不再需 要預(yù)熱和冷卻,，因?yàn)?LED 僅 在曝光期間打開,。這些因素 顯著有助于相對較低的能源 消耗。LED 的使用壽命比傳 統(tǒng)燈高出許多倍,，從而降低 了更換燈泡所產(chǎn)生的成本,。 停工、購買新燈,、調(diào)整和處 理舊材料都已成為過去,。使 用 LED 燈箱既安全又環(huán)保， 是健康和職業(yè)安全以及環(huán)境 保護(hù)方面的重要進(jìn)步,。
高精度自動套刻系統(tǒng)
性能提升 品質(zhì)升級
作為全場曝光系統(tǒng),， CI-150A/CI-200A能夠一 次曝光150mm/200mm 晶圓,此系統(tǒng)光均勻性已 超過95%，更能提升產(chǎn) 品品質(zhì),。它更高的吞吐 量和更低的投資成本直 接轉(zhuǎn)化為更低的擁有成 本,，使其成為適用于各 種光刻工藝的最佳決方案,。
卓越的光均勻性
高精度 更精準(zhǔn)
采用頂部對 準(zhǔn)系統(tǒng)， 選用高 清相機(jī)及大視野 鏡頭,， 納米級對 位承載平臺以及 低頻隔振系統(tǒng),， 在將掩模定位在 晶圓上時(shí)可實(shí)現(xiàn) 低至 0.5 μm 的 對準(zhǔn)精度 。
會務(wù)組
聯(lián)系人：段經(jīng)理
電話：13810445572
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