中國粉體網(wǎng)訊 高純氧化鋁粉體具有普通氧化鋁無法比擬的光,、電,、磁、熱和機械性能,，是配套航天航空,、半導(dǎo)體、核能,、新能源,、冶金、生物醫(yī)療,、照明,、機械、化工等眾多工程領(lǐng)域的重要新材料,，是現(xiàn)代化工附加值最高,、應(yīng)用最廣泛的高端材料之一。在此背景下,，中國粉體網(wǎng)將在中國·重慶舉辦2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術(shù)及應(yīng)用交流大會,，大會旨在搭建高純氧化鋁上下游技術(shù)交流、信息互通的溝通平臺,，促進(jìn)我國高純氧化鋁行業(yè)技術(shù)與產(chǎn)業(yè)發(fā)展突破,。
從2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術(shù)及應(yīng)用交流大會組委會獲悉，本屆會議將于2025年9月19日在中國重慶舉辦,。蘇州錦業(yè)源自動化設(shè)備有限公司作為參展單位邀請您共同出席,。
蘇州錦業(yè)源自動化設(shè)備有限公司（隸屬于錦源科技控股有限公司）成立于2011年8月，是一家專業(yè)從事半導(dǎo)體封裝,、電子陶瓷（LTCC,，HTCC）生產(chǎn)及設(shè)備代理的專業(yè)服務(wù)商，尤為擅長提供微組裝整線及電子陶瓷整線工藝,、生產(chǎn)解決方案和技術(shù)支援,。
目前，公司主要合作伙伴來自歐洲及日本,，合力為業(yè)界廣大客戶提供一流的產(chǎn)品及方案,，同時提供專業(yè)技術(shù)顧問，咨詢服務(wù),。
公司發(fā)展至今,，培養(yǎng)了具備核心競爭力的人才團隊，擁有具備專業(yè)素養(yǎng)的若干售前,、售后及銷售人員,，可積極快速響應(yīng)客戶要求并提供優(yōu)質(zhì),、高效、稱心的服務(wù),，為客戶創(chuàng)造價值,，贏得效益。
基于客戶多年來的信任及認(rèn)可,，我們將持續(xù)秉承技術(shù)引領(lǐng)方向,、經(jīng)驗規(guī)避風(fēng)險、服務(wù)決定未來,、伙伴一起成長!”的宗旨,，推動行業(yè)發(fā)展，精心服務(wù)用戶,，求是創(chuàng)新,，更創(chuàng)輝煌!
產(chǎn)品介紹
1、全自動單晶圓清洗機 AST-T02-CL
設(shè)備功能及特點：
晶圓全自動清洗機,，8”/12” 共享機臺,，切換只需更換FOUP內(nèi) Adaptor。
具備多功特性,，針對不同應(yīng)用,，集成不同功能。具備高速離心旋轉(zhuǎn),、HPC,、二流體、SC1 化學(xué)清洗及能加裝兆聲波等功能,。
適用于 Particle 清洗,、Flux 清洗及光阻殘留清洗等制程 。
流場模擬腔體設(shè)計,，獨特的密封設(shè)計,，為制程提供最潔凈的清洗環(huán)境。
友善的軟件接口,，提供量產(chǎn)和工程安全便利的芯片制程,。
2、單晶圓/陶瓷片超聲波光阻噴涂機
設(shè)備功能及特點：
本機是全自動的超聲波噴涂機臺,，可實現(xiàn)取片,、對位、噴涂,、去邊,、烘烤、放片等全自動作業(yè)。超聲波噴涂是利用壓電材料將電能轉(zhuǎn)換為機械能,，以震蕩的方式來霧化流體，可以得到均勻且微細(xì)的涂布液滴,，以溫和且微細(xì)的液滴從基材正上方開始沉積涂布,，階梯覆蓋率的表現(xiàn)更為優(yōu)越，也能有效提高材料利用率,。利用轉(zhuǎn)速跟噴頭移動速度做配合,，進(jìn)行連續(xù)性的旋轉(zhuǎn)噴涂，可有效提高產(chǎn)能,，更可消除一般設(shè)備來回噴涂時,，因路徑不同所造成的膜厚落差。并且本機采用大口徑的供料流道設(shè)計,，能有效避免管路堵塞的發(fā)生,，減少設(shè)備停機維修時間，提高設(shè)備使用的稼動率,。腔體結(jié)構(gòu)導(dǎo)入流場數(shù)值模擬規(guī)劃,，用以進(jìn)行優(yōu)化流道幾何設(shè)計，避免粒子回流污染涂布腔體,。
3,、高精度光刻機
設(shè)備特點:
UV-LED光源
安全又環(huán)保 無需預(yù)熱冷卻
選用 UV-LED 光源不再需 要預(yù)熱和冷卻，因為 LED 僅 在曝光期間打開,。這些因素 顯著有助于相對較低的能源 消耗,。LED 的使用壽命比傳 統(tǒng)燈高出許多倍，從而降低 了更換燈泡所產(chǎn)生的成本,。 停工,、購買新燈、調(diào)整和處 理舊材料都已成為過去,。使 用 LED 燈箱既安全又環(huán)保,， 是健康和職業(yè)安全以及環(huán)境 保護方面的重要進(jìn)步。
高精度自動套刻系統(tǒng)
性能提升 品質(zhì)升級
作為全場曝光系統(tǒng),， CI-150A/CI-200A能夠一 次曝光150mm/200mm 晶圓,此系統(tǒng)光均勻性已 超過95%,，更能提升產(chǎn) 品品質(zhì)。它更高的吞吐 量和更低的投資成本直 接轉(zhuǎn)化為更低的擁有成 本,，使其成為適用于各 種光刻工藝的最佳決方案,。
卓越的光均勻性
高精度 更精準(zhǔn)
采用頂部對 準(zhǔn)系統(tǒng)， 選用高 清相機及大視野 鏡頭,， 納米級對 位承載平臺以及 低頻隔振系統(tǒng),， 在將掩模定位在 晶圓上時可實現(xiàn) 低至 0.5 μm 的 對準(zhǔn)精度 。
會務(wù)組
聯(lián)系人：李先生
電話：15563675367
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