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蘇州錦業(yè)源自動化與您相約重慶,!2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術及應用交流大會


來源:中國粉體網(wǎng) 粉享匯   粉享匯

[導讀]  2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術及應用交流大會,,9月19日,,相約中國·重慶

中國粉體網(wǎng)訊 高純氧化鋁粉體具有普通氧化鋁無法比擬的光,、電、磁,、熱和機械性能,,是配套航天航空、半導體,、核能,、新能源、冶金,、生物醫(yī)療,、照明、機械,、化工等眾多工程領域的重要新材料,,是現(xiàn)代化工附加值最高、應用最廣泛的高端材料之一,。在此背景下,,中國粉體網(wǎng)將在中國·重慶舉辦2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術及應用交流大會,大會旨在搭建高純氧化鋁上下游技術交流,、信息互通的溝通平臺,,促進我國高純氧化鋁行業(yè)技術與產(chǎn)業(yè)發(fā)展突破。


2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術及應用交流大會組委會獲悉,,本屆會議將于2025年9月19日中國重慶舉辦,。蘇州錦業(yè)源自動化設備有限公司作為參展單位邀請您共同出席,。




蘇州錦業(yè)源自動化設備有限公司(隸屬于錦源科技控股有限公司)成立于2011年8月,,是一家專業(yè)從事半導體封裝、電子陶瓷(LTCC,,HTCC)生產(chǎn)及設備代理的專業(yè)服務商,,尤為擅長提供微組裝整線及電子陶瓷整線工藝、生產(chǎn)解決方案和技術支援,。


目前,,公司主要合作伙伴來自歐洲及日本,合力為業(yè)界廣大客戶提供一流的產(chǎn)品及方案,,同時提供專業(yè)技術顧問,,咨詢服務。


公司發(fā)展至今,,培養(yǎng)了具備核心競爭力的人才團隊,,擁有具備專業(yè)素養(yǎng)的若干售前、售后及銷售人員,,可積極快速響應客戶要求并提供優(yōu)質(zhì),、高效,、稱心的服務,為客戶創(chuàng)造價值,,贏得效益,。


基于客戶多年來的信任及認可,我們將持續(xù)秉承技術引領方向,、經(jīng)驗規(guī)避風險,、服務決定未來、伙伴一起成長!”的宗旨,,推動行業(yè)發(fā)展,,精心服務用戶,求是創(chuàng)新,,更創(chuàng)輝煌!



產(chǎn)品介紹


1,、全自動單晶圓清洗機 AST-T02-CL



設備功能及特點:


晶圓全自動清洗機,8”/12” 共享機臺,,切換只需更換FOUP內(nèi) Adaptor,。

具備多功特性,針對不同應用,,集成不同功能,。具備高速離心旋轉(zhuǎn)、HPC,、二流體,、SC1 化學清洗及能加裝兆聲波等功能。

適用于 Particle 清洗,、Flux 清洗及光阻殘留清洗等制程 ,。

流場模擬腔體設計,獨特的密封設計,,為制程提供最潔凈的清洗環(huán)境,。

友善的軟件接口,提供量產(chǎn)和工程安全便利的芯片制程,。


2,、單晶圓/陶瓷片超聲波光阻噴涂機




設備功能及特點:


本機是全自動的超聲波噴涂機臺,可實現(xiàn)取片,、對位,、噴涂、去邊,、烘烤,、放片等全自動作業(yè)。超聲波噴涂是利用壓電材料將電能轉(zhuǎn)換為機械能,以震蕩的方式來霧化流體,,可以得到均勻且微細的涂布液滴,,以溫和且微細的液滴從基材正上方開始沉積涂布,階梯覆蓋率的表現(xiàn)更為優(yōu)越,,也能有效提高材料利用率,。利用轉(zhuǎn)速跟噴頭移動速度做配合,進行連續(xù)性的旋轉(zhuǎn)噴涂,,可有效提高產(chǎn)能,,更可消除一般設備來回噴涂時,因路徑不同所造成的膜厚落差,。并且本機采用大口徑的供料流道設計,,能有效避免管路堵塞的發(fā)生,減少設備停機維修時間,,提高設備使用的稼動率,。腔體結構導入流場數(shù)值模擬規(guī)劃,用以進行優(yōu)化流道幾何設計,,避免粒子回流污染涂布腔體,。


3、高精度光刻機





設備特點:


UV-LED光源

安全又環(huán)保 無需預熱冷卻


選用 UV-LED 光源不再需 要預熱和冷卻,,因為 LED 僅 在曝光期間打開,。這些因素 顯著有助于相對較低的能源 消耗。LED 的使用壽命比傳 統(tǒng)燈高出許多倍,,從而降低 了更換燈泡所產(chǎn)生的成本,。 停工、購買新燈,、調(diào)整和處 理舊材料都已成為過去,。使 用 LED 燈箱既安全又環(huán)保, 是健康和職業(yè)安全以及環(huán)境 保護方面的重要進步,。


高精度自動套刻系統(tǒng)

性能提升 品質(zhì)升級


作為全場曝光系統(tǒng),, CI-150A/CI-200A能夠一 次曝光150mm/200mm 晶圓,此系統(tǒng)光均勻性已 超過95%,更能提升產(chǎn) 品品質(zhì),。它更高的吞吐 量和更低的投資成本直 接轉(zhuǎn)化為更低的擁有成 本,使其成為適用于各 種光刻工藝的最佳決方案,。


卓越的光均勻性

高精度 更精準


采用頂部對 準系統(tǒng),, 選用高 清相機及大視野 鏡頭, 納米級對 位承載平臺以及 低頻隔振系統(tǒng),, 在將掩模定位在 晶圓上時可實現(xiàn) 低至 0.5 μm 的 對準精度 ,。




會務組

聯(lián)系人:李先生

電話:15563675367

郵箱:[email protected]



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