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再升級版本拋光液-讓高效拋光更上一層樓


來源:中國粉體網(wǎng)   山林

[導(dǎo)讀]  博來納潤鉭酸鋰襯底CMP拋光液再升級,。

中國粉體網(wǎng)訊  近日,,據(jù)浙江博來納潤電子材料有限公司消息,,博來納潤研發(fā)團隊推出的鉭酸鋰LTPOL-124、LTPOL-125A/B,、LTPOL-126A/B三款拋光液通過客戶實測驗證,,正式問世。


 

博來納潤官網(wǎng)


在科技飛速發(fā)展的當下,,鉭酸鋰(LT)作為一種優(yōu)良的多功能晶體材料,,憑借其優(yōu)良的壓電、電光和熱電性能,,以及機電耦合系數(shù)大,、低損耗、高溫穩(wěn)定性和高頻性能好等特點,,被廣泛應(yīng)用于移動通信,、衛(wèi)星通信等民用及軍事領(lǐng)域�,?梢哉f,,從我們?nèi)粘J褂玫氖謾C,到關(guān)于國防安全的雷達,,鉭酸鋰都在發(fā)揮著巨大作用,。


在拋光加工這一環(huán)節(jié),常見的拋光技術(shù)如機械拋光,、化學(xué)拋光,、磁研磨拋光、流體拋光、電化學(xué)拋光,、離子束轟擊拋光,、浮法拋光等,均屬于局部平坦化技術(shù),,且平坦化能力從幾微米到幾十微米不等,,但是國際上普遍認為,加工工件特征尺寸在0.35μm以下時,,必須進行全局平坦化,,化學(xué)機械拋光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)技術(shù)被譽為是當今時代能實現(xiàn)集成電路(IC)制造中晶圓表面全局平坦化的唯一技術(shù),,化學(xué)機械拋光的效果直接影響到芯片最終的質(zhì)量和成品率,。


然而,鉭酸鋰屬于硬脆材料,,鉭酸鋰拋光往往要耗費大量時間,難度增加,,如何高效完成CMP工藝,,成為了棘手難題。


日前,,博來納潤公司鉭酸鋰LTPOL-124,、LTPOL-125A/B、LTPOL-126A/B三款拋光液通過客戶實測驗證,,正式問世,。該產(chǎn)品線覆蓋堿性、中性,、酸性各加工工藝的需求,,且均具備優(yōu)異的去除速率、高儲存穩(wěn)定性和拋光后易清洗等優(yōu)點,。這個系列的拋光液產(chǎn)品就像為鉭酸鋰加工量身定制的神奇鑰匙,,有望開啟國產(chǎn)化拋光液的高效拋光新時代。


堿性拋光液LTPOL-124:引航拋光速率新高度


 

堿性拋光液LTPOL-124與競品液的性能比較,,以及拋后粗糙度


當1kg拋光液循環(huán)3個小時,,全程無需加液和調(diào)整pH,LTPOL-124相較競品速率提升10-20%,。而且,,無論在何種稀釋比的條件下,LTPOL-124均有著更高的去除速率,,且保持著<0.2 nm的拋后粗糙度,,這代表著極為優(yōu)異的超精密加工水平。


中性拋光液LTPOL-126A/B:比日本進口產(chǎn)品具有更高的稀釋比,,更具性價比


 

中性拋光液LTPOL-126A/B與日本競品液的性能比較,,以及拋后粗糙度


同樣使用1kg拋光液循環(huán)拋光3小時,,中途不加液,不調(diào)整pH,,LTPOL-126A/B相較競品顯示出更高的速率,,且拋后粗糙度<0.2 nm。這款產(chǎn)品使用博來納潤自制硅溶膠,,不僅超過了日本進口產(chǎn)品的性價比,,而且產(chǎn)品還不易結(jié)晶和劃傷,為國內(nèi)企業(yè)提供更優(yōu)質(zhì),、更經(jīng)濟的選擇,。


酸性拋光液LTPOL-125A/B:高去除速率,有望重塑市場格局


 

酸性拋光液LTPOL-125A/B與傳統(tǒng)堿性配方競品的性能比較,,以及拋后粗糙度


對于追求高去除速率的市場需求,,LTPOL-125 A/B 無疑提供了一個很好的選擇。1kg拋光液循環(huán)拋光3個小時,,中途不加液,、不調(diào)整pH的情況下,相較傳統(tǒng)堿性配方競品,,LTPOL-125 A/B速率提升1.8-2倍,,且循環(huán)3個小時后,速率衰減<15%,,拋后粗糙度<0.25 nm,,表現(xiàn)出色。


參考來源:

[1] 博來納潤官網(wǎng)

[2] 燕禾等,,化學(xué)機械拋光技術(shù)研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢

[3] 嚴嘉勝等,,硅晶片化學(xué)機械拋光液的研究進展

[4] 夏琳,硅溶膠化學(xué)機械拋光液的研究


(中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林)

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