中國粉體網(wǎng)訊  近日,，據(jù)浙江博來納潤電子材料有限公司消息,，博來納潤研發(fā)團隊推出的鉭酸鋰LTPOL-124、LTPOL-125A/B,、LTPOL-126A/B三款拋光液通過客戶實測驗證,，正式問世。

博來納潤官網(wǎng)

在科技飛速發(fā)展的當下,，鉭酸鋰（LT）作為一種優(yōu)良的多功能晶體材料,，憑借其優(yōu)良的壓電、電光和熱電性能,，以及機電耦合系數(shù)大,、低損耗、高溫穩(wěn)定性和高頻性能好等特點,，被廣泛應(yīng)用于移動通信,、衛(wèi)星通信等民用及軍事領(lǐng)域�,？梢哉f,，從我們?nèi)粘Ｊ褂玫氖謾C，到關(guān)于國防安全的雷達,，鉭酸鋰都在發(fā)揮著巨大作用,。

在拋光加工這一環(huán)節(jié)，常見的拋光技術(shù)如機械拋光,、化學(xué)拋光,、磁研磨拋光、流體拋光、電化學(xué)拋光,、離子束轟擊拋光,、浮法拋光等，均屬于局部平坦化技術(shù),，且平坦化能力從幾微米到幾十微米不等,，但是國際上普遍認為，加工工件特征尺寸在0.35μm以下時,，必須進行全局平坦化,，化學(xué)機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術(shù)被譽為是當今時代能實現(xiàn)集成電路（IC）制造中晶圓表面全局平坦化的唯一技術(shù),，化學(xué)機械拋光的效果直接影響到芯片最終的質(zhì)量和成品率,。

然而，鉭酸鋰屬于硬脆材料,，鉭酸鋰拋光往往要耗費大量時間，難度增加,，如何高效完成CMP工藝,，成為了棘手難題。

日前,，博來納潤公司鉭酸鋰LTPOL-124,、LTPOL-125A/B、LTPOL-126A/B三款拋光液通過客戶實測驗證,，正式問世,。該產(chǎn)品線覆蓋堿性、中性,、酸性各加工工藝的需求,，且均具備優(yōu)異的去除速率、高儲存穩(wěn)定性和拋光后易清洗等優(yōu)點,。這個系列的拋光液產(chǎn)品就像為鉭酸鋰加工量身定制的神奇鑰匙,，有望開啟國產(chǎn)化拋光液的高效拋光新時代。

堿性拋光液LTPOL-124：引航拋光速率新高度

堿性拋光液LTPOL-124與競品液的性能比較,，以及拋后粗糙度

當1kg拋光液循環(huán)3個小時,，全程無需加液和調(diào)整pH，LTPOL-124相較競品速率提升10-20%,。而且,，無論在何種稀釋比的條件下，LTPOL-124均有著更高的去除速率,，且保持著＜0.2 nm的拋后粗糙度,，這代表著極為優(yōu)異的超精密加工水平。

中性拋光液LTPOL-126A/B：比日本進口產(chǎn)品具有更高的稀釋比,，更具性價比

中性拋光液LTPOL-126A/B與日本競品液的性能比較,，以及拋后粗糙度

同樣使用1kg拋光液循環(huán)拋光3小時,，中途不加液，不調(diào)整pH,，LTPOL-126A/B相較競品顯示出更高的速率,，且拋后粗糙度＜0.2 nm。這款產(chǎn)品使用博來納潤自制硅溶膠,，不僅超過了日本進口產(chǎn)品的性價比,，而且產(chǎn)品還不易結(jié)晶和劃傷，為國內(nèi)企業(yè)提供更優(yōu)質(zhì),、更經(jīng)濟的選擇,。

酸性拋光液LTPOL-125A/B：高去除速率，有望重塑市場格局

酸性拋光液LTPOL-125A/B與傳統(tǒng)堿性配方競品的性能比較,，以及拋后粗糙度

對于追求高去除速率的市場需求,，LTPOL-125 A/B 無疑提供了一個很好的選擇。1kg拋光液循環(huán)拋光3個小時,，中途不加液,、不調(diào)整pH的情況下，相較傳統(tǒng)堿性配方競品,，LTPOL-125 A/B速率提升1.8-2倍,，且循環(huán)3個小時后，速率衰減<15%,，拋后粗糙度＜0.25 nm,，表現(xiàn)出色。

參考來源：

[1] 博來納潤官網(wǎng)

[2] 燕禾等,，化學(xué)機械拋光技術(shù)研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢

[3] 嚴嘉勝等,，硅晶片化學(xué)機械拋光液的研究進展

[4] 夏琳，硅溶膠化學(xué)機械拋光液的研究

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林）

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