中國粉體網(wǎng)訊  2024年7月9日,，由中國粉體網(wǎng)主辦的“2024高端研磨拋光材料技術(shù)大會”在河南鄭州高新假日酒店隆重召開！

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

簽到現(xiàn)場

大會云集了高端研磨拋光材料及儀器裝備企業(yè),，科研院所以及半導(dǎo)體等終端企業(yè)的300多名行業(yè)精英,，圍繞高端研磨拋光材料應(yīng)用及技術(shù)難點(diǎn)，深入探討了當(dāng)前高端研磨拋光行業(yè)的發(fā)展方向,，共同展望了行業(yè)發(fā)展趨勢。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

中國粉體網(wǎng)會展事業(yè)部總經(jīng)理孔德宇先生主持開幕式

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

包頭稀土研究院高級工程師陳傳東主持會議

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

會議現(xiàn)場

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

現(xiàn)場嘉賓互動交流

本屆大會邀請了河南工業(yè)大學(xué)栗正新教授,、河北工業(yè)大學(xué)副研究員何彥剛,、南昌大學(xué)李靜副教授,、包頭稀土研究院高級工程師陳傳東等近12位國內(nèi)行業(yè)專家前來演講交流。

會議精彩報(bào)告

碳化硅晶圓襯底的切割,、磨削,、拋光是機(jī)械加工的前沿技術(shù)，加工效率低,、精度達(dá)標(biāo)率低,、成本高是目前存在的主要問題。栗正新教授在報(bào)告中分析了金剛石圓鋸片切割,、激光切割,、金剛石線鋸切割三種工藝的特點(diǎn)及問題，闡述了固結(jié)磨具減薄和金剛石微粉磨料雙面減薄以及研磨,、拋光技術(shù)存在的技術(shù)問題和解決方案,。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

河南工業(yè)大學(xué)栗正新教授作《SiC晶圓襯底切磨拋關(guān)鍵技術(shù)研究》報(bào)告

鈰基拋光粉被譽(yù)為“拋光粉之王”，目前的研究表明采用納米氧化鈰作為CMP磨料,，在拋光效率及效果上均優(yōu)于其他產(chǎn)品,。王寧報(bào)告中介紹了有研稀土在氧化鈰拋光液的相關(guān)研究，揭示了CeO2物相,、結(jié)構(gòu)與形貌的演變規(guī)律,，制備出系列易分散的納米氧化鈰粉體和拋光液。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

有研稀土新材料股份有限公司高級研發(fā)主管王寧作《納米鈰基拋光材料及其在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用進(jìn)展》報(bào)告

作為芯片制造不可或缺的一環(huán),，CMP工藝在設(shè)備和材料領(lǐng)域歷來是“兵家必爭之地”，而CMP工藝離不開研磨料的發(fā)展,，那么對于磨料的顆粒粒度表征就顯得尤為重要。熊向軍總經(jīng)理報(bào)告中詳細(xì)介紹了用于研磨拋光行業(yè)中的兩款納米粒度分析儀,。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

儒亞科技(北京)有限公司總經(jīng)理熊向軍作《高速離心納米粒度儀在超硬材料和高效研磨領(lǐng)域的應(yīng)用》報(bào)告 

氧化硅是CMP最常用的磨粒之一,，在CMP精拋光中,，磨料氧化硅的合成技術(shù)難點(diǎn)和國產(chǎn)化供應(yīng)問題是行業(yè)內(nèi)一直關(guān)注的問題，不少學(xué)者選擇對氧化硅改性處理,。程幫貴報(bào)告中介紹了其團(tuán)隊(duì)成功合成的超高純膠體氧化硅的研究歷程,。 

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院高級研發(fā)工程師程幫貴作《氧化硅拋光材料的制備改性及應(yīng)用》報(bào)告

新型堆積磨料磨具的工作壽命長,、消耗功率小,，使磨料的利用率大幅度提高,，具有性價(jià)比高,、綠色減排的綜合效益,。邊華英報(bào)告中對研磨拋光用陶瓷結(jié)合劑堆積磨料的制備技術(shù)進(jìn)行了詳細(xì)介紹,。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

河南建筑材料研究設(shè)計(jì)院（有限責(zé)任公司）副主任邊華英作《研磨拋光用堆積磨料制備技術(shù)》報(bào)告

宋科鵬研究員報(bào)告圍繞CMP拋光用高純納米氧化鋁，重點(diǎn)關(guān)注CMP拋光用納米高純氧化鋁理化特征,、微觀形貌、生產(chǎn)工藝,、技術(shù)路線,、應(yīng)用場景等內(nèi)容,，系統(tǒng)闡述了不同生產(chǎn)工藝對納米氧化鋁微觀形貌的影響,。最后對公司現(xiàn)有納米鋁基粉體材料及后續(xù)研發(fā)方向進(jìn)行了介紹,。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

中鋁山東有限公司高純氧化鋁事業(yè)部經(jīng)理?xiàng)顓擦郑ㄋ慰迄i代講）作《CMP拋光用高純氧化鋁的制備及應(yīng)用》報(bào)告

氧化鈰是集成電路制造過程中平坦化的重要磨料之一,，如何使磨料具有高的去除效率和低的表面粗糙度一直是磨料合成領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)問題。陳傳東以提高磨料的拋光效率為切入點(diǎn),，介紹了材料設(shè)計(jì)合成方面的研究進(jìn)展及在拋光領(lǐng)域的應(yīng)用,。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

包頭稀土研究院高級工程師陳傳東作《稀土鈰基磨料的設(shè)計(jì),、合成及拋光性能研究》報(bào)告

超精密加工技術(shù)是尖端產(chǎn)品發(fā)展不可缺少的關(guān)鍵手段,，與發(fā)達(dá)國家相比,，我國光學(xué)元件在拋光工藝水平和加工裝備研制能力等方面有待進(jìn)一步提升。班新星教授從先進(jìn)光學(xué)元件的超精密制造工藝出發(fā),，結(jié)合自身的科研經(jīng)歷和研究計(jì)劃，以大口徑平面光學(xué)元件超精密拋光為例,，探討了平面拋光機(jī)理,、面形收斂機(jī)制,、拋光機(jī)床設(shè)計(jì)及工藝優(yōu)化控制等問題。最后班教授分享了半導(dǎo)體拋光技術(shù)研究進(jìn)展,。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

河南工業(yè)大學(xué)副教授班新星作《光學(xué)元件超精密拋光工藝及裝備》報(bào)告

金剛石拋光加工時(shí)較容易破碎，這使得實(shí)現(xiàn)金剛石高質(zhì)量,、高效率的超光滑無損傷表面的加工非常困難,。鄒洋報(bào)告中對金剛石襯底表面超精拋光機(jī)理與工藝進(jìn)行探討,，目標(biāo)是實(shí)現(xiàn)金剛石晶圓的大尺寸,、高效率,、亞納米級高精度,、全局平坦化超精制造,。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

清華大學(xué)天津高端裝備研究院常務(wù)副所長戴媛靜（鄒洋代講）作《第四代金剛石襯底材料表面超精拋光工藝探討》報(bào)告

超精密加工最開始被開發(fā)用于制造計(jì)算機(jī)和電子等各個領(lǐng)域的核心組件，在半導(dǎo)體的加工領(lǐng)域大放異彩,。何彥剛研究員介紹了材料的超精密加工技術(shù),，從CMP技術(shù)的關(guān)鍵參數(shù),、磨料的影響,，以及集成電路中對CMP的要求等方面對CMP工藝全面剖析,。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

河北工業(yè)大學(xué)副研究員何彥剛作《材料的超精密加工與化學(xué)機(jī)械平坦化》報(bào)告

王孝坤對中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所潛心研究的4m量級輕量化碳化硅非球面反射鏡的創(chuàng)新技術(shù)進(jìn)行了詳細(xì)介紹，并對大口徑非球面制造技術(shù)發(fā)展趨勢和成果推廣與應(yīng)用情況進(jìn)行了評述,。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所王孝坤研究員作《大口徑碳化硅反射鏡高精度制造技術(shù)》報(bào)告

隨著最小特征尺寸的縮小,，IC制造用納米氧化鈰拋光材料的消耗呈現(xiàn)可觀增長,，李靜結(jié)合自身工作從介質(zhì)層CMP的要求,、氧化鈰拋光機(jī)理與摩擦化學(xué)反應(yīng)、表面特征調(diào)節(jié)等方面探討了芯片拋光用納米氧化鈰粒子的制備與漿液調(diào)配,。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

南昌大學(xué)李靜副教授作《集成電路制造用納米氧化鈰拋光材料》報(bào)告

展覽現(xiàn)場精彩瞬間

本次會議期間,，高端研磨拋光行業(yè)的三十余家企業(yè)展示了各自的先進(jìn)產(chǎn)品,，參會嘉賓參觀了企業(yè)展臺,，并與企業(yè)精英,、專家進(jìn)行了面對面地交流,。

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

展示區(qū)人頭攢動

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

參會代表面對面交流

©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

參展產(chǎn)品

總結(jié)

由于半導(dǎo)體制造技術(shù)不斷向微細(xì)化,、高速,、高密度方向發(fā)展,，因此適用于平坦化工藝的CMP技術(shù)的市場規(guī)模近年來得到了迅速增大,，CMP技術(shù)日益凸顯其重要性,。本次會議的舉辦對于促進(jìn)高端研磨拋光行業(yè)的交流與合作具有重要意義,，各方合力必將推動高端研磨拋光行業(yè)實(shí)現(xiàn)突破發(fā)展,。

（中國粉體網(wǎng)鄭州報(bào)道/空青）