科技部和中國(guó)電子材料行業(yè)協(xié)會(huì)在洛陽(yáng)中硅高科組織召開驗(yàn)收評(píng)審會(huì)。中硅高科承擔(dān)的國(guó)家“十一五”科技支撐計(jì)劃課題大型三氯氫硅合成、提純工藝技術(shù)與關(guān)鍵裝置研究,、高效加壓
還原爐系統(tǒng)研究,、大型低溫加壓四氯化硅氫化技術(shù)與裝置研究三個(gè)課題和參與完成的多晶硅標(biāo)準(zhǔn)、專利體系建設(shè)與研究課題順利通過驗(yàn)收評(píng)審,。專家認(rèn)為，這四項(xiàng)科技成果成功解決了規(guī)模化多晶硅生產(chǎn)中的瓶頸問題,，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白，標(biāo)志著我國(guó)多晶硅生產(chǎn)集成工藝技術(shù)又獲新突破,。
版權(quán)與免責(zé)聲明：
① 凡本網(wǎng)注明"來(lái)源：中國(guó)粉體網(wǎng)"的所有作品,，版權(quán)均屬于中國(guó)粉體網(wǎng)，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載,、摘編或利用其它方式使用,。已獲本網(wǎng)授權(quán)的作品，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,，并注明"來(lái)源：中國(guó)粉體網(wǎng)",。違者本網(wǎng)將追究相關(guān)法律責(zé)任。
② 本網(wǎng)凡注明"來(lái)源：xxx（非本網(wǎng)）"的作品,，均轉(zhuǎn)載自其它媒體，轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息,，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),，且不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。如其他媒體,、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)下載使用,，必須保留本網(wǎng)注明的"稿件來(lái)源"，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任,。
③ 如涉及作品內(nèi)容,、版權(quán)等問題，請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起兩周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利,。
