推薦這些影響稀土鈰基磨料的的拋光效率的因素,，值得關(guān)注,！

中國(guó)粉體網(wǎng)訊 化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）技術(shù)是實(shí)現(xiàn)材料全局表面平坦化的重要手段,，稀土鈰基磨料因其具有顆粒硬度適中,、可與被拋光材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)、可回收性和資源豐富等優(yōu)勢(shì)是目前應(yīng)用最廣泛的CMP磨料,。在稀土材料用于拋光粉之前,，人們通[更多]