推薦ALD緣何成為一項半導(dǎo)體領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)

中國粉體網(wǎng)訊 經(jīng)過將近30年的發(fā)展,，作為功能薄膜制備中的一項關(guān)鍵技術(shù),，原子層沉積（ALD）技術(shù)在催化、半導(dǎo)體、光學(xué)等眾多領(lǐng)域都發(fā)揮著十分重要的作用,。ALD最初用于平板顯示器所需的多晶熒光材料ZnS、Mn以及非晶Al2O3絕緣[更多]